PVA-TePla 射頻等離子體去膠機（*）
型號：IoN 40 (M4L 升級版)
典型應(yīng)用：
去除光刻膠 Photo-resist Stripping
表面精密清潔 Surface Precision Cleaning
表面活化 Surface Modification
提高表面粘合性 Bond Strength Enhancements
改變表面親水性/疏水性 Hydrophilic/Hydrophobic
分子接枝 Molecular Grafting
涂層 Plasma Deposited Coatings
規(guī)格參數(shù)：
13.56MHz風冷射頻電源（0～600w可調(diào)，可選0～300W，0-1000W），
高靈敏快速自動匹配功能
陽極表面處理鋁制腔體，
水平抽卸極板/垂直極板/側(cè)壁極板/水冷極板，
不銹鋼防腐蝕MFC，
多至6路氣體，
兼容8英寸及以下晶圓
可選配法拉第桶
可選配壓力控制系統(tǒng)
PC工控機控制，運行數(shù)據(jù)自動存儲
觸控屏圖形化界面
外形尺寸：775×723×781 mm
認證：
CE 認證
EN 61010
EN 61326
Semi E95
USP Class VI
FDA CFR Title 21 Part 11
CISPR 55011
ISO 9001
NFPA79
NFPA70
