GRADIS分散系統(tǒng)適用于那些不需要太高分散能量的樣品比如晶體、沙粒、小粒等。下落柱可以對(duì)樣品提供均勻的分散效果并控制以保持顆粒在通過(guò)激光束的時(shí)候保持速度一致。它既可用于激光粒度儀主機(jī)HELOS,又可用于圖像分析儀主機(jī)QICPIC。
重力干法粒度儀測(cè)試原理:
利用光的衍射現(xiàn)象,即大顆粒產(chǎn)生的衍射角小,小顆粒產(chǎn)生的衍射角大,通過(guò)計(jì)算探測(cè)器上收集到的不同衍射圖形的光強(qiáng)分布,來(lái)給出顆粒的粒度大小和粒度分布。
重力干法粒度儀檢測(cè)粒度范圍:
0.5- 8750 微米 (可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用范圍配置量程)
測(cè)試結(jié)果精度:
準(zhǔn)確度 | σ ± 1 % 與值的平均相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(x10…x90) |
測(cè)試重復(fù)性 | σ < 0.3 % 多次取樣重復(fù)性誤差 |
儀器可比性 | σ < 1 % 中位徑的平均相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 (x50) |
| |Δx50| < 2.5 % 大相對(duì)偏差 |
功能及特點(diǎn):
1. 如需要,樣品可以在測(cè)試之后回收再利用
2. 可對(duì)非常粗的顆粒進(jìn)行檢測(cè),而每次的樣品量可以達(dá)到公斤級(jí)
3. 下落柱的出口狹縫的寬度2 mm, 4 mm 或者 10 mm可手動(dòng)選擇,以適配樣品應(yīng)用
4. 在一些特殊的應(yīng)用中,可對(duì)下落柱進(jìn)行導(dǎo)電或者非導(dǎo)電的PTFE鍍膜處理