YWL-2500半導(dǎo)體氣體分析系統(tǒng)基于領(lǐng)xian的半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(DLAS),即“單線光譜”測(cè)量技術(shù)。具體來(lái)說(shuō),就是通過(guò)測(cè)量具有某一特定吸收譜線的激光束在穿過(guò)被測(cè)氣體時(shí)發(fā)生的衰減信息,并根據(jù)激光強(qiáng)度衰減與被測(cè)氣體含量間的正比關(guān)系,分析獲得被測(cè)氣體的濃度。
與非分光紅外氣體分析技術(shù)相同,DLAS技術(shù)也是一種吸收光譜技術(shù),它利用Beer-Lambert關(guān)系來(lái)定量分析半導(dǎo)體激光能量被被測(cè)氣體選擇吸收產(chǎn)生的衰減來(lái)獲得氣體的濃度。與傳統(tǒng)非分光紅外分析技術(shù)使用譜寬很寬且固定波長(zhǎng)的紅外光源不同,DLAS技術(shù)使用譜寬非常小(也就是單色性非常好) 且波長(zhǎng)可調(diào)諧的半導(dǎo)體激光器作為光源。
YWL-2500半導(dǎo)體氣體分析系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)
類別 | 參數(shù) | 指標(biāo) |
技術(shù)指標(biāo) | 量 程 | HCL:0-1000ppm |
響應(yīng)時(shí)間 | ≤1s | |
光通道長(zhǎng)度 | ≤15m | |
線性誤差 | ≤±1%量程/六個(gè)月 | |
量程漂移 | ≤±1%量程/六個(gè)月 | |
維護(hù)周期 | <2次/年,清潔光學(xué)視窗(無(wú)消耗品需要) | |
標(biāo)定周期 | 六個(gè)月 | |
防護(hù)等級(jí) | 發(fā)射單元/接收單元:IP65 | |
防爆等級(jí) | ExpxmdⅡCT5(選配) | |
輸出信號(hào) | 模擬量輸出 | 2路4-20mA電流(隔離、zui大負(fù)載750Ω) |
模擬量輸入 | 2路4-20mA電流(溫度、壓力補(bǔ)償) | |
通訊接口 | RS485 | |
繼電器輸出 | 3路輸出(繼電器規(guī)格:24V,1A) | |
工作條件 | 電源 | 24V DC(18-36VDC,>20W) |
吹掃氣體 | 0.4-0.8MPa工業(yè)氮?dú)饣騼艋瘍x表氣等 氮?dú)饧兌取?9.99% | |
環(huán)境溫度 | -30~-60℃ | |
安裝 | 安裝方式 | DN50/PN2.5 法蘭原位安裝
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