等離子清洗是指氣體在一定條件下如射頻、微波、直流輝光放電等,電離氣體形成活性等離子態(tài),利用等離子中的活性粒子與物體表面污物進(jìn)行反應(yīng),或者利用等離子中的高能粒子轟擊物體表面污物形成可揮發(fā)性的污物隨真空泵抽出,達(dá)到清洗的目的。它是一種高效環(huán)保的清洗方法,特別是對(duì)超聲波所不能清洗的污物顆粒,用等離子表面清洗機(jī)清洗具有非常好的效果。
低溫等離子體中的粒子能量一般約為幾個(gè)至十幾電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，*可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵，但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。處于非熱力學(xué)平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒子的化學(xué)反應(yīng)活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優(yōu)點(diǎn)為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。通過(guò)低溫等離子體表面處理，材料表面發(fā)生多種的物理、化學(xué)變化，或產(chǎn)生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團(tuán)，使親水性、粘結(jié)性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。
表面改性包括兩方面的作用一方面為材料表面物理改性,主要通過(guò)等離子的 蝕刻作用使材料表面粗糙,而粗糙的表面具有比光滑的表面大得多的比表面積，第二方面為材料表面的化學(xué)改性,通過(guò)等離子體的蝕刻作用使材料表面的化學(xué)建發(fā)生斷裂, 再通過(guò)化學(xué)交聯(lián)反應(yīng),再斷鍵的部位接枝上親水基團(tuán)主要包括氫氧根 一使材料具有親水性。整個(gè)過(guò)程其實(shí)包括兩個(gè)方面的改性,即表面物理結(jié)構(gòu)改性和表面化學(xué)特性改性。
特點(diǎn)：
①無(wú)污染、環(huán)境友好、綠色清洗 ②較低的設(shè)備投資和運(yùn)行成本 ③操作控制簡(jiǎn)單、較高的清洗質(zhì)量 ④良好的均勻性和可重復(fù)性 ⑤能改變材料本身的粘著性、潤(rùn)濕性等性能
等離子表面清洗作為一種新興的清洗技術(shù),具有其自身不可替代的優(yōu)勢(shì),得到國(guó)內(nèi)外學(xué)者的青睞,現(xiàn)在等離子表面清洗機(jī)己經(jīng)在很多領(lǐng)域得到應(yīng)用,并取得很好的效果。
