激光粒度儀 HELOS/BR，測試區(qū)域可結(jié)合干法/濕法分散系統(tǒng)或樣品適配器，用于測試0.1微米到 875微米的粒度范圍 (使用HELOS/KR, HELOS-VARIO/KR可測試到8,750微米).

技術(shù)參數(shù) 和 尺寸.
HELOS，使用單一物理原理(在平行激光光束中的激光衍射)測試0.1-8750微米全范圍。儀器提供兩種計算模式：FREE：基于Fraunhofer衍射原理的無參數(shù)計算方案，MIEE：基于精確Mie理論的大量程擴(kuò)展計算，可供選擇。量程鏡頭的組合在這兩種計算方法下都可應(yīng)用，確保測試的寬范圍同時獲得的測試精度。
它是用于干樣和濕樣，也就是粉體、懸浮液、乳濁液和噴霧等粒度分析的經(jīng)典儀器。是*符合ISO 13320"Particle size analysis - laser diffraction methods"（“粒度分析-激光衍射法”）規(guī)定，并且設(shè)計的精度相對于標(biāo)準(zhǔn)米高達(dá)±1%。
分辨率高，重復(fù)性好，結(jié)合高速的數(shù)據(jù)傳輸，網(wǎng)絡(luò)接口以及標(biāo)準(zhǔn)化的支持新帕泰克全系列儀器的WINDOX操作軟件，保證了更*的粒度解決方案。
HELOS分析系統(tǒng)與其模塊化的配置，通過結(jié)合適合的分散單元，用于不同性質(zhì)的樣品分析。

HELOS特點

(Helium-Neon Laser Optical System)

HELOS代表具有相同高品質(zhì)的激光粒度儀系列產(chǎn)品，該系列擁有以下幾個種類：

模塊1		測試范圍	應(yīng)用
HELOS	/BR	0.1 - 875 微米	實驗室/ at-line在線
	/KR	0.1 - 8 750 微米	實驗室/ at-line在線
VARIO	/KR	0.1 - 8 750 微米	實驗室/ at-line在線
MYTOS2		0.25 - 3 500 微米	on-line 在線/ at-line在線

Outstanding performance characteristics common to all HELOS sensors:

	一個測試原理涵蓋整個從0.1微米到3500微米的測試范圍，632.8nm平行激光束，*符合ISO 13320.
	相對于標(biāo)準(zhǔn)米，精度在±1%以內(nèi)。
	最多7個測量鏡頭，可通過軟件選定。每個鏡頭都是特殊設(shè)計的(傅里葉-)物鏡，具有的分辨率和測試精度。
	模塊化的設(shè)計結(jié)構(gòu)，根據(jù)實際應(yīng)用，用不同的分散系統(tǒng)與主機(jī)組合分析粉體、懸浮液、乳濁液、氣溶膠與噴霧等。
	精密半圓形(180°)多元探測器帶自動對焦準(zhǔn)直，以獲得的衍射模型，尤其是非球形顆粒。
	自動調(diào)節(jié)光束直徑以適應(yīng)量程鏡頭，從而獲得的工作距離，這對例如擴(kuò)散氣溶膠等的測試非常重要。
	使用FREE (Fraunhofer Enhanced Evaluation)模式計算粒度分布: Fraunhofer理論 (用于未知光學(xué)參數(shù)的測試)，測試范圍為0.1至8 750微米 MIEE (Mie Extended Evaluation): Mie理論 (用于球形的、各向同性的、均勻的并已知符合折射率的顆粒測試，供選擇)，測試范圍為 0.1至8 750微米 量程鏡頭組合：  2-7個量程鏡頭測試可整合為一個粒度分布結(jié)果 (供選擇).
	WINDOX 5 軟件用于儀器的控制和粒度分析數(shù)據(jù)的計算： 一個軟件支持全部的off-line, at-line, on-line, in-line儀器的操作， 數(shù)據(jù)庫導(dǎo)向，多傳感器適用，應(yīng)用于> 106 HELOS測試， 符合21 CFR rule 11 每秒收集2000次的粒度信息，可自定義采樣頻率 使用統(tǒng)計信息，提高反演算法
	堅固的全金屬外殼以及整合的精密光學(xué)平臺，允許傳感器在任意方向上的操作，例如用于噴霧測試時顛倒應(yīng)用，甚至垂直應(yīng)用 測試鏡頭轉(zhuǎn)換快速
	通信： TCP-IP接口，與所有的傳感器組件和外部設(shè)備并行通信 通過內(nèi)置的Web界面進(jìn)行系統(tǒng)設(shè)置 通過aux-in/out和ZigBit™無線網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行特殊裝置的控制

 
除了粒徑大小之外，對顆粒真實形貌的監(jiān)測和分析已經(jīng)變得越重要。圖像分析技術(shù)正是為實現(xiàn)這一目的而誕生的。
對于顆粒大小和形貌的分析技術(shù)來說，存在以下幾個重要問題：

	1.	圖像分析技術(shù)基于顆粒數(shù)的統(tǒng)計學(xué)規(guī)律。如果顆粒數(shù)很少，就會造成粒度分布中很大的誤差：nmin > 1/E?max 因此為了保證1%的標(biāo)準(zhǔn)偏差，顆粒數(shù)必須大于10,000。很多情況下測試結(jié)果是按照體積分布函數(shù)Q3(x)給出的。而根據(jù)后來出臺的ISO 14488 (2003)，最少顆粒數(shù)對于粒度分布結(jié)果本身具有決定性的作用。通常為了保證小于1%的誤差，每次測量檢測的顆粒數(shù)必須大于1,000,000個。
	2.	顆粒與顆粒之間必須互相分開。否則就必須使用非常耗時的計算方法通過軟件把團(tuán)聚在一起的多個顆粒單獨識別出來。未經(jīng)分散的顆粒會造成總測試顆粒數(shù)的減少并帶來更長的計算時間。
	3.	整個測試時間必須被保持在可接受的范圍內(nèi)。對于1,000,000個顆粒來說，如果每副圖像上有10個顆粒的話，那么就需要拍100,000 幀的圖像來完成測試。按照每秒鐘拍攝25副照片的常規(guī)速度，這樣的測試將消耗400秒，也就是一次測試時間超過一個小時。
	4.	為了獲得顆粒的真實形貌必須在照片上可以清晰的分辨它的邊緣，這就要求所獲得的照片具有非常高的對比度和清晰度
	5.	粒子在測試過程中必須保持取向的任意性，否則得出的粒度測試結(jié)果將會不準(zhǔn)確。