NK-800系列激光過程氣分析系統是基于半導體激光吸收光譜（DLAS）技術的過程氣體分析系統，能夠在各種環(huán)境（尤其是高溫、高壓、高粉塵、強腐蝕等惡劣環(huán)境下）進行氣體濃度等參量的在線測量，并具有準確性高、相應速度快、可靠性高、運行費用低等特點，為生產優(yōu)化、能源回收、安全控制、環(huán)保監(jiān)測和科研分析帶來極大的方便，在鋼鐵冶金、石油化工、環(huán)境保護和能源電力等行業(yè)已得到廣泛的應用。

激光氣體分析儀原理：

半導體激光吸收光譜技術—利用激光能量被氣體分子“選頻”吸收形成吸收光譜的原理來測量氣體濃度。半導體激光器發(fā)射出特定波長激光束（僅被被測氣體吸收），穿過被測氣體時，激光強度的衰減與被測氣體濃度成一定函數關系，因此，通過測量激光強度衰減信息就可以分析獲得被測氣體的濃度。

激光過程氣分析系統特點：

1、無需采樣，現場測量

2、響應速度快（<2秒）

3、測量精度高（≤±1%）

4、不受背景氣體交叉干擾

5、自動修正粉塵及光學視窗污染影響

6、結構簡單緊湊、可靠性高，操作維護方便，運行費用低

7、模塊化設計，可現場更換所有功能模塊

8、安裝方式靈活（可選抽取式、原位式）

9、不受背景氣體交叉干擾的影響

10、自動修正粉塵和視窗污染對測量濃度的影響

11、消除氣體環(huán)境參數（溫度和壓力等）變化對測量的影響

激光原理不同氣體測量參數：