武漢超純水設(shè)備是將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，超純水是一般工藝很難達(dá)到的,電阻率一般為10～18.3MΩ·cm。
常用工藝：
1、RO+離子交換
特點(diǎn)：適用于原水水質(zhì)較好的條件，投資較少，自動(dòng)化程度相對(duì)較低，適用于出水品質(zhì)在10—15兆歐/厘米。
2、RO+EDI
特點(diǎn)：自動(dòng)化程度較高，出水品質(zhì)穩(wěn)定，適用于出水品質(zhì)在15—17兆歐/厘米
3、RO+EDI+拋光床。
特點(diǎn)：自動(dòng)化程度較高，投資較大，出水品質(zhì)優(yōu)良，適用于出水品質(zhì)在17—18.3兆歐/厘米
武漢超純水設(shè)備性能特點(diǎn)：
1、產(chǎn)品水品質(zhì)高，長期運(yùn)行產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定。
2、自動(dòng)化程度高，操作管理簡單，勞動(dòng)強(qiáng)度低
3、不會(huì)因再生而停機(jī)，連續(xù)再生，無需停機(jī)。
4、不需化學(xué)再生，無污水排廢
5、運(yùn)行費(fèi)用低，能耗低
6、占地面積小，廠房投資少
應(yīng)用行業(yè)：
1、太陽能光伏行業(yè)：單/多晶硅、硅片切割、太陽能電池、半導(dǎo)體硅材料等工用純水和超純水。
2、電子工業(yè)：半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸摸屏、眼鏡鏡片、數(shù)碼相機(jī)鏡片、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用超純水。
3、生物醫(yī)藥工業(yè)：生物技術(shù)用水、醫(yī)藥生產(chǎn)用水、生化制品用水、針劑、粉針劑、藥劑、大輸液、科研無菌水、口服液等符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4、化工工業(yè)：化工工藝用水、化學(xué)試劑、化工生產(chǎn)用水、精細(xì)化工、化妝品、洗潔精、洗衣液、打印機(jī)墨水等生產(chǎn)工藝用純水。
基本參數(shù)：
| 指標(biāo) | 參數(shù) |
| EDI要求： | 反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-50μs/cm，最大允許電導(dǎo)率≤50μs/cm |
| pH值： | 7.5—9 |
| 溫度： | 15℃--35℃ |
| 進(jìn)水壓力： | 0.15—0.4MPa |
| 濃水進(jìn)水壓力： | 0.10—0.3MPa |
| 產(chǎn)水壓力： | 0.05—0.25MPa |
| 濃水出水壓力： | 0.02—0.2MPa |
| 進(jìn)水硬度： | 0.2—0.6MPA |
| 進(jìn)水有機(jī)物： | TOC＜0.5ppm |
| 進(jìn)水氧化劑： | Cl2（活性）＜0.03ppm |
| 進(jìn)水硅： | SiO2＜0.5ppm |
| 進(jìn)水總CO2： | ＜3ppm |
| 進(jìn)水顆粒度： | ＜1μm |
