一、儀器概述
應用領域 | 冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。 |
可檢測基體 | 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。 |
光學系統(tǒng) | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng) |
波長范圍 | 120~800nm |
光柵焦距 | 401mm |
探 測 器 | 高性能CMOS陣列 |
光源類型 | 數(shù)字光源,高能預燃技術(HEPS) |
放電頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | |
工作電源 | AC220V 50/60Hz 1200W |
儀器尺寸 | 760*610*1130mm |
儀器重量 | 約168kg |
檢測時間 | 依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右 |
電極類型 | 鎢材噴射電極 |
分析間隙 | 4mm |
其他功能 | 真空,溫度,軟件自動控 壓力,通訊監(jiān)測 |
高性能光學系統(tǒng) | 光學系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光學室,實現(xiàn)光路直通,有效的降低光路損耗; |
采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素以及各種金屬元素含量; | |
測定結果精準,重復性期穩(wěn)定性佳。 | |
自動光路校準 | 自動光路校準,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作; |
儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。 | |
插拔式透鏡設計 | 真空光學系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作,光學透鏡采用插拔式透鏡結構,日常清洗維護方便快捷。 |
真空室一體化 | *的光室結構設計,使真空室容積更小,抽真空時間僅普通光譜儀的1/2; |
真空室一體化設計及高精密的加工,使真空保持的更加持久。 | |
真空防返油技術 | 多級隔離的真空防返油技術,采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空*隔離 |
中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進入真空室,保障CMOS檢測器及光學元件在可靠環(huán)境中工作。 | |
開放式激發(fā)臺 | 開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析; |
配合使用小樣品夾具,線材分析可達到3mm。 | |
噴射電極技術 | 用的噴射電極技術,使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度 |
配上*氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。 | |
集成氣路模塊 | 氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護設計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。 |
數(shù)字化激發(fā)光源 | 數(shù)字激發(fā)光源,采用的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品; |
全數(shù)字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出; | |
可任意調(diào)節(jié)光源的各項參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。 | |
高速數(shù)據(jù)采集 | 儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。 |
以太數(shù)據(jù)傳輸 | 計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機*外置,方便升級和更換; |
可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。 | |
預制工作曲線 | 備有不同材質(zhì)和牌號的標樣庫,儀器出廠時工廠預制工作曲線,方便安裝調(diào)試和及時投入生產(chǎn); |
根據(jù)元素和材質(zhì)對應的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動選擇測試條件; | |
技術規(guī)格中附有分析范圍(并可根據(jù)用戶提供標樣免費繪制或延長工作曲線)。 | |
分析速度快 | 分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析; |
針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及測量時間,使儀器用最短時間達到的分析效果。 | |
多基體分析 | 光路設計采用羅蘭圓結構,檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設施,即可實現(xiàn)多基體分析; |
便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。 | |
軟件中英文系統(tǒng) | 儀器操作軟件*兼容于Windows7/8/10系統(tǒng); |
軟件操作簡單,即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓即可上手使用。 |
序號 | 名稱 | 規(guī)格型號 | 數(shù)量 | 備注 |
1 | 直讀光譜儀(含配置) | NJ-QP990 | 1套 | |
2 | 聯(lián)想電腦 | 主流配置 | 1套 | |
3 | HP激光打印機 | 主流配置 | 1臺 | |
4 | 氬氣減壓閥 | 1個 | ||
5 | 不銹鋼潔凈管 | Φ6mm | 1根 | |
6 | 網(wǎng)線 | 1.5米 | 1根 | |
7 | 三芯電源線 | 國標 | 2根 | |
8 | NJ-QP990用戶手冊 | 1本 | ||
9 | NJ-QP990日常維護 | 1本 | ||
10 | 備品備件及工具 | 1套 |
項目 | 指標 |
檢測基體 | Fe、Al、Cu三種基體合金的成分測量 |
檢測時間 | 試樣品類型而定,一般20s左右 |
光學系統(tǒng) | 帕型-龍格 |
波長范圍 | 120~800nm |
工作電源 | (220±20)V AC,(50±1)Hz,保護性接地的單相電源 |
工作溫度 | (10~30)℃ |
存儲溫度 | (0~45)℃ |
工作濕度 | 20%~80% |
氬氣純度要求 | 99.999% |
氬氣進口壓力 | 0.5MPa |
氬氣流量 | 激發(fā)流量約3.5L/min,維持流量約0.4L/min,待機流量約0.1L/min, |
尺寸 | 長760mm,寬610mm,高1130mm |
重量 | 約168kg |
激發(fā)功率 | 400VA |
待機平均功率 | 100VA |
光源類型 | 脈沖合成全數(shù)字光源(可編程脈沖全數(shù)字光源) |
放電頻率 | 1000 Hz |
放電電流 | 400A |
引燃點火脈沖 | 1~14kV |
火花激發(fā)脈沖 | 20~230V |
電弧激發(fā)脈沖 | 20~60V |
激發(fā)臺孔徑 | 13mm |