GXF-215B 數(shù)顯式硅酸根分析儀器
測量范圍 | 0~50.0μg/LsiO2 | ||||
基本誤差 | ≤±2.0μg/L | ||||
重復性誤差 | ≤±0.2μg/L | ||||
短期漂移(30分鐘) | ≤±0.2μg/L | ||||
長期漂移(24小時) | ≤±2.0μg/L | ||||
化學方法 | 硅鉬蘭光度法GB 12150—89 0 GXF-215B 數(shù)顯式硅酸根分析儀器 |
測量范圍 | 0~50.0μg/LsiO2 | ||||
基本誤差 | ≤±2.0μg/L | ||||
重復性誤差 | ≤±0.2μg/L | ||||
短期漂移(30分鐘) | ≤±0.2μg/L | ||||
長期漂移(24小時) | ≤±2.0μg/L | ||||
化學方法 | 硅鉬蘭光度法GB 12150—89 |
GXF-215B 數(shù)顯式硅酸根分析儀器
測量范圍 | 0~50.0μg/LsiO2 | ||||
基本誤差 | ≤±2.0μg/L | ||||
重復性誤差 | ≤±0.2μg/L | ||||
短期漂移(30分鐘) | ≤±0.2μg/L | ||||
長期漂移(24小時) | ≤±2.0μg/L | ||||
化學方法 | 硅鉬蘭光度法GB 12150—89 |