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半導體廢氣處理系統(tǒng)簡介

半導體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)：半導體行業(yè)產(chǎn)生的廢氣通過分類密閉收集處理，有酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣、有毒有害廢氣、一般尾氣等。不同類型的廢氣所選用的半導體環(huán)保設備有所不同。處理系統(tǒng)有機臺端的POU本地處理和廠務端（Fab）中yang處理系統(tǒng)；如熱氧化、CVD、干法刻蝕、離子注入等工藝制程中會產(chǎn)生特性氣體（硅烷、砷烷、磷烷、全氟烴、含鹵素氣體等有毒和高沸點廢氣），先經(jīng)本地Local Scrubber預處理，后經(jīng)入廠務端的中yang處理系統(tǒng)集中處理。 中yang處理系統(tǒng)集中處理有酸性廢氣處理系統(tǒng)（SEX）、堿性廢氣處理系統(tǒng)（AEX）、有機廢氣處理系統(tǒng)（VEX）、砷排處理系統(tǒng)（ASX）、一般排氣系統(tǒng)（GEX）等，其中一般排氣系統(tǒng)所排廢氣無污染，起排風散熱作用。

LOCAL SCRUBBER 半導體尾氣處理設備

Local Scrubber預處理可避免從排氣過程中引發(fā)風管堵塞、管路腐蝕、局部聚積或氣體相互反應，導致氣體泄漏、火災爆炸等事故。 Local Scrubber的處理方法有燃燒水洗、高溫水洗、等離子水洗、干法吸附等。經(jīng)Local Scrubber處理后的廢氣主要為氟化物、氯hua氫、氯氣等，進入廠務端酸性廢氣系統(tǒng)集中處理。

（格林斯達環(huán)保集團 Local Scrubber 預處理設備）

半導體酸性/堿性廢氣處理設備

半導體行業(yè)酸性廢氣來源于清洗、濺射、濕法刻蝕、濕法去膠和經(jīng)Local Scrubber處理后的工藝廢氣，其主要組成為HF、HCl、Cl2、H2SO4、SO2等；堿性廢氣主要來源于清洗、濕法刻蝕、光刻顯影、去膠、CMP等工藝，污染物為NH3、NaOH等。堿性廢氣處理工藝也采用噴淋洗滌處理，常用吸收液為H2SO4溶液。

（格林斯達環(huán)保集團 立式洗滌塔）

酸性/堿性廢氣洗滌塔分為臥室和立式兩種結(jié)構(gòu)，臥式洗滌塔一般適用對高度有限制的場地，而立式洗滌塔用于廠地面積有限但高度無限的項目上，其處理效率不受影響都可達98%。

（格林斯達環(huán)保集團 臥式洗滌塔）

酸性/堿性洗滌塔采用pH值、液位值和電導值控制水箱中堿液的加入和補/排水的循環(huán)，通過測量液位控制補水，電導率控制排水；pH值控制堿液的加入。整個過程實現(xiàn)全自動化控制，免除人工加藥及檢測過程，操作方便，易于檢修。

半導體有機廢氣處理設備

半導體行業(yè)有機廢氣主要來源于清洗、CVD、光刻、濕法刻蝕、去膠及擴散等工藝；有機廢氣種類主要包括異丙醇、丙酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、重芳烴等。因半導體行業(yè)VOCs廢氣具有風量大，濃度低的特點，其風量通常大于11000m3/h，濃度大約在50~1000mg/m3之間（以非甲烷總烴計）所以常用的半導體有機廢氣處理技術(shù)即沸石濃縮轉(zhuǎn)輪+直接燃燒（TO），效率可達≥95%。

（格林斯達環(huán)保集團 沸石轉(zhuǎn)輪+高溫氧化爐TO）

半導體有毒廢氣處理設備

含砷有毒有毒廢氣來源摻雜制程工序，包括砷烷、磷烷和硼wan。目前，隨著國家及各地區(qū)環(huán)保排放標準越來越嚴格，在含砷系統(tǒng)Local Scrubber預處理后在Fab 中yang端再次進行干式吸附，常用設備為砷磷烷吸附塔，吸附后通過末端風機負壓達標排放。 砷烷等與吸附劑發(fā)生化學吸附、復分解等反應，生成穩(wěn)定的無毒無害的化合物，吸附劑是砷排系統(tǒng)的關(guān)鍵之重。

（格林斯達環(huán)保集團 砷磷烷吸附塔）

格林斯達環(huán)保集團，泛半導體工藝廢氣治理系統(tǒng)解決方案提供商，提供廢氣治理一站式服務（方案規(guī)劃設計、設備生產(chǎn)及安裝、系統(tǒng)運行調(diào)試、智慧運維）。如您有半導體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)、半導體廢氣處理需求，即刻聯(lián)系我們吧！