大理石平臺(tái)技術(shù)要求:
1.平板工作面上不得有嚴(yán)重影響外觀和使用性能的砂孔、氣孔、裂紋、夾渣、縮松、劃痕、碰傷、銹跡等缺陷。
2.平板非工作面上的凹陷或掉角允許修補(bǔ)。
3.平板應(yīng)用用細(xì)晶粒、結(jié)構(gòu)致密的輝長(zhǎng)巖、輝綠巖、花崗石(黑云母應(yīng)小于5%、彈性模具應(yīng)大于0.6*10-4kg/cm2、吸水率應(yīng)小于0.25%)等材料制造,其工作面硬度應(yīng)大于70HS.
4.平板工作面的表面粗糙度Ra的允許值為0.32~0.63um,側(cè)面為10um。
5.平板工作面的平面度公差見表2的規(guī)定。
6.對(duì)采用對(duì)角線法或網(wǎng)絡(luò)法檢驗(yàn)平板工作面平面度時(shí),應(yīng)檢驗(yàn)其平面波動(dòng)量。
7.平板側(cè)面對(duì)工作面的垂直度公差和平板兩相鄰側(cè)面的垂直度公差均按GB/T1184中規(guī)定的12級(jí)。
8.平板工作面的集中載荷區(qū)、施加的額定載荷和允許撓度值要符合規(guī)定。
9.000級(jí)和00級(jí)平板建議不設(shè)置搬運(yùn)手柄。
10.若0級(jí)和1級(jí)平板工作面上設(shè)置螺紋孔(或溝槽),其部位應(yīng)不高于工作面。
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