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光電化學(xué)循環(huán)伏安測(cè)試

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  • 公司名稱環(huán)球分析測(cè)試儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/3/17 14:07:01
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分析測(cè)試儀器有限公司(UATIL)成立于1982年,總部設(shè)在香港,是國(guó)外多家的*儀器生產(chǎn)制造商在中國(guó)的總代理。 主要產(chǎn)品電化學(xué)儀器:電化學(xué)工作站、光電化學(xué)測(cè)試設(shè)備化學(xué)合成儀器:全自動(dòng)反應(yīng)系統(tǒng)、反應(yīng)量熱儀、超聲波結(jié)晶系統(tǒng)、平行合成儀、高溫高壓釜、流動(dòng)化學(xué)系統(tǒng)萃取及純化儀器:超臨界萃取儀、快速制備色譜、固相萃取、溶劑蒸發(fā)儀、氣體純化系統(tǒng)生命科學(xué)儀器:生物反應(yīng)器、發(fā)酵罐、冷凍干燥機(jī)、移液工作站、離心濃縮儀乳品分析儀器:乳品成分分析儀、體細(xì)胞計(jì)數(shù)器、奶牛生產(chǎn)性能測(cè)試儀材料測(cè)試儀器:網(wǎng)格應(yīng)變測(cè)試儀、杯凸試驗(yàn)機(jī)惰性環(huán)境儀器:手套箱微流控儀器:?jiǎn)渭?xì)胞測(cè)序、細(xì)胞包裹、微流控芯片、微流泵、液滴微流控系統(tǒng)、3D芯片打印機(jī)
但是在實(shí)際測(cè)試體系情況下,由于電解液存在一定的電阻 Ru,Ru 是參比電極到工作電極表面電雙層(double layer)一邊的溶液電阻。根據(jù)歐姆定律,這個(gè) Ru 就會(huì)產(chǎn)生一定壓降,壓降的大小為 Vir= I*Ru。這樣就造成工作電極上的實(shí)際電壓和相對(duì)參比電極而施加的電壓有所不同
光電化學(xué)循環(huán)伏安測(cè)試 產(chǎn)品信息

大多數(shù)情況下,我們認(rèn)為參比電極(RE)和工作電極(WE)之間施加的電壓就是在工作電極上施加的電壓。如圖一所示。


但是在光電化學(xué)循環(huán)伏安測(cè)試實(shí)際測(cè)試體系情況下,由于電解液存在一定的電阻 Ru,Ru 是參比電極到工作電極表面電雙層(double layer)一邊的溶液電阻。根據(jù)歐姆定律,這個(gè) Ru 就會(huì)產(chǎn)生一定壓降,壓降的大小為 Vir= I*Ru。這樣就造成工作電極上的實(shí)際電壓和相對(duì)參比電極而施加的電壓有所不同。如圖二所示。


在大多數(shù)情況下此電壓降是不予考慮的。但是當(dāng)實(shí)驗(yàn)時(shí)使用了低電導(dǎo)性的電解液,這個(gè)壓差比較大時(shí),就需要考慮對(duì)此Vir降進(jìn)行補(bǔ)償。通常可以使用微電極,或者改變電解液的電導(dǎo)率來(lái)消除,也可以采用自動(dòng)實(shí)時(shí)壓降補(bǔ)償?shù)募夹g(shù)進(jìn)行補(bǔ)償。
補(bǔ)償電阻 Ru 的大小可以通過(guò)直流電流快速遮斷法或者采用 EIS 方法進(jìn)行測(cè)試。EIS 要比直流電流快速折斷法更確定。電流快速折斷方法是早期沒(méi)有 AC 技術(shù)的時(shí)候出現(xiàn)的。自從有 AC 技術(shù)之后,EIS 成為選擇的測(cè)試技術(shù)。使用 EIS 技術(shù)時(shí),測(cè)試 1K-100KHz 頻率范圍內(nèi)的交流阻抗譜。在高頻區(qū),相位為零時(shí)的阻值就是要補(bǔ)償?shù)碾娊庖弘娮?Ru,如圖三所示。

獲得補(bǔ)償?shù)淖柚抵?,可以使用正反饋的方法進(jìn)行實(shí)時(shí)補(bǔ)償。通過(guò)不斷調(diào)節(jié)補(bǔ)償量(0%-99%)直到出現(xiàn)振蕩為止。例如 Ru 100? ,推薦補(bǔ)償值為 70 ?90 ? 。如果是 100 ? 全值補(bǔ)償,有可能會(huì)出現(xiàn)自激震蕩現(xiàn)象。
下面使用 Zahner Zennium 系列電化學(xué)工作站做一些實(shí)際測(cè)試。測(cè)試時(shí)使用圖四所示的模擬元件電路。

使用 EIS 測(cè)試技術(shù),頻率范圍設(shè)定為 1Hz-100KHz,得到的 EIS 譜圖后再進(jìn)行擬合。擬合結(jié)
果和實(shí)際電路*一樣(考慮元件誤差)。Ru=100?,Rp=1995 ?,電容為 993.8nF. 如圖五所示。

當(dāng)進(jìn)行 CV I/E 測(cè)試時(shí),若果需要,點(diǎn)擊溶液補(bǔ)償 Ohnic drop 測(cè)試,軟件可以自動(dòng)采用上面描述的交流阻抗的測(cè)試方法快速獲得 Ru 的值(圖六),然后就可以進(jìn)行溶液阻抗補(bǔ)償?shù)难h(huán)伏安測(cè)試。測(cè)試過(guò)程中電化學(xué)工作站進(jìn)行實(shí)時(shí)電壓補(bǔ)償。補(bǔ)償前后的 CV 曲線如圖七和圖八所示。自動(dòng)獲取溶液電阻Ru

圖七,紅色為未補(bǔ)償?shù)牡?CV 曲線藍(lán)色為 IR 補(bǔ)償后的 CV 曲線通過(guò)計(jì)算,兩者之間的電阻差為 100 ? 左右。這個(gè)正是電解液阻值 Ru。此時(shí)說(shuō)明 IR 的實(shí)時(shí)補(bǔ)償效果有效。

圖八,改變不同的補(bǔ)償電阻值,就會(huì)得到不同的 CV 曲線。在掃描電壓一樣時(shí),電流值會(huì)依次增加,用以補(bǔ)償設(shè)置的 Ru。

綜合以上光電化學(xué)循環(huán)伏安測(cè)試測(cè)試結(jié)果,Zahner 電化學(xué)工作站采用自動(dòng) EIS 方法測(cè)試補(bǔ)償電阻之 Ru,然后在CV或者 I/E 測(cè)試方法中進(jìn)行實(shí)時(shí)的自動(dòng)補(bǔ)償。在實(shí)際體系測(cè)試時(shí),可能由于體系的性質(zhì)不同,補(bǔ)償電阻的大小需要調(diào)整來(lái)實(shí)現(xiàn)補(bǔ)償效果。


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