十堰酸霧凈化塔 有機廢氣處理設(shè)備
氣體凈化與特種氣體除雜——吸附 多晶硅,灰色金屬光澤,溶于氫氟酸和硝酸的混酸中, 不溶于水、硝酸和鹽酸。高溫熔融狀態(tài)下,具有較大的化學活潑性質(zhì),能與幾乎任何材料作用,具有半導體性質(zhì),是極為重要的優(yōu)良半導體材料,但是微量的雜質(zhì)即可大大影響其導電性。
電子工業(yè)中廣泛應(yīng)用于制造各類產(chǎn)品,由干燥硅粉與干燥氯化氫氣體在一定條件下氯化,再經(jīng)冷凝、精餾、還原而得。
多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料,是當代人工智能、自動控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導體器件的電子信息基礎(chǔ)材料,被稱為“微電子大廈的基石”。
而在生產(chǎn)過程中由于氣體雜質(zhì)的存在,對半導體材料的危害也是很大的,為了得到高質(zhì)量的多晶硅和單晶硅,因此在氣體前必須將氣體進行凈化。凈化的方法有很多,在氣體凈化技術(shù)中,經(jīng)常綜合運用以下幾個方面的知識;
十堰酸霧凈化塔 有機廢氣處理設(shè)備
用吸濕性液體干燥劑(液堿、硫酸等)進行吸收;
用固體干燥劑:KOH、CuSO4、CaCl2過氯酸鎂等進行化學吸收,用硅膠、
分子篩等進行物理吸收;用催化劑進行化學催化;
用冷媒或冷劑(液態(tài)氮等)進行低溫冷凍;
其中吸附劑的種類有很多,目前我國半導體工業(yè)中應(yīng)用的還是硅膠分子篩酯類的吸附劑。
化學催化反應(yīng)是指存在于氣體中的有害雜質(zhì)有時不能靠物理的方法從氣體中去除,而是借助催化劑的作用,使氣體中的雜質(zhì)被吸附在催化劑表面,使雜質(zhì)與氣體中的其他組分相互起化學反應(yīng)轉(zhuǎn)化為無害的化合物,這猴子那個方法被稱為化學催化。
海普開發(fā)的氣體凈化與特種氣體除雜——吸附工藝,采用自主研發(fā)的吸附催化產(chǎn)品,可針對性解決半導體行業(yè)中的氣體凈化與特種氣體除雜。