XLNCE SMX-BEN 臺(tái)式能量色散X射線熒光分析儀(EDXRF)為工藝開(kāi)發(fā)、過(guò)程控制和質(zhì)量保證等領(lǐng)域提供無(wú)損檢測(cè)、薄膜層厚和成分的測(cè)量手段。是研發(fā)工作和失效分析中的分析方法。它能促進(jìn)在前期或早期生產(chǎn)階段的材料選擇和配方制定,并支持加工平臺(tái)工具以及產(chǎn)能生產(chǎn)。
- 提供一系列可選擇的X射線光源和初級(jí)濾片
- 配備一代的硅漂移探測(cè)器
- 為簡(jiǎn)易校準(zhǔn)過(guò)程提供經(jīng)驗(yàn)值和基本參數(shù)解決方案
- 超大分析樣品室
- X-Y-Z可編程定位
特殊應(yīng)用領(lǐng)域:
- 光伏制造
- 金屬涂層
- 晶圓級(jí)金屬化和微電子
- 腐蝕/磨損和熱障分析
XLNCE SMX-BEN提供了的多樣化分析和超高的性價(jià)比。