產(chǎn)品簡(jiǎn)介:該設(shè)備為小型三靶磁控濺射鍍膜設(shè)備,通過(guò)模塊式化設(shè)計(jì)后,系統(tǒng)安裝方便靈活易于維護(hù),適合科研與教學(xué)實(shí)驗(yàn)使用。
產(chǎn)品型號(hào) | 三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng) |
主要特點(diǎn) | 1、組成由單室超高真空雙靶磁控濺射室,由濺射真空室與管路組成。 2、配有旁抽系統(tǒng),啟動(dòng)快不停機(jī)即可更換樣品,重復(fù)性好。 3、用于鍍制各種單層膜、多層膜系,可實(shí)現(xiàn)單靶獨(dú)立、雙靶輪流、雙靶共濺射等濺射模式。 4、同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)磁控濺射,制備氮化物,氧化物等,可鍍金屬及導(dǎo)磁金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜。 5、作為試驗(yàn)設(shè)備來(lái)說(shuō)達(dá)到了的性能價(jià)格比。 |
技術(shù)參數(shù) | 系統(tǒng)由真空腔室、旋轉(zhuǎn)樣品架、磁控濺射靶、鎧裝加熱器、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)等各部分組成。 極限真空優(yōu)于:5.0x10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后) 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?,再開(kāi)始抽氣,40分鐘可達(dá)到6.0x10-4Pa; 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5 Pa 1、 真空室腔體尺寸Ф300x350mm,手動(dòng)上開(kāi)蓋輔助液壓結(jié)構(gòu),前有一個(gè)觀察窗,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)內(nèi)部連接鎧裝加熱器、真空規(guī)、放氣閥等各種規(guī)格的法蘭接口,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面采用電解拋光處理。采用金屬或氟橡膠圈密封。配備一體機(jī)柜標(biāo)準(zhǔn)電箱。 2、磁控濺射靶 靶材尺寸:Φ50mm(其中一個(gè)可以濺射磁性材料); 永磁靶一支、強(qiáng)磁靶一支:射頻濺射與直流濺射兼容,靶內(nèi)有水冷;配手動(dòng)擋板。 2個(gè)靶可共同向下面的樣品中心濺射,靶與樣品距離90~110mm可調(diào)。 3、鎧裝加熱樣品: 加熱區(qū)域?yàn)?Phi;100mmX100mm(H),基片加熱溫度 室溫-600°C±1°C,由熱電偶閉環(huán)反饋控制。 配有磁力轉(zhuǎn)軸,電機(jī)驅(qū)動(dòng)每分鐘低于30轉(zhuǎn)。 |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、真空部件 進(jìn)氣角閥:2套; RF100觀察窗:1套; 觀察窗法蘭:RF100 2個(gè); 電阻規(guī): KF16 1個(gè); 電極引線: CF25 1個(gè); 2、工作真空獲得及測(cè)量: 直聯(lián)6L/s機(jī)械泵: 1臺(tái); F600分子泵:1臺(tái); 電磁KF20閥:1臺(tái); 5227真空計(jì):1臺(tái) 角閥RF16、管路、接頭、充氣閥D6等: 1路; KF25電磁壓差閥: 1臺(tái); CF100閘板閥:1臺(tái); 3、相關(guān)規(guī)格的金屬密封銅圈,氟橡膠密封圈 4、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等 5、安裝機(jī)臺(tái)架組件: 安裝臺(tái)架:整個(gè)設(shè)備安放在一個(gè)用承載式標(biāo)準(zhǔn)電箱上,箱體均進(jìn)行噴塑處理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、電源控制系統(tǒng) 電源布置在標(biāo)準(zhǔn)電箱上,安裝于系統(tǒng)機(jī)架上。 7、自制電源 控制電源:1臺(tái)(為機(jī)械泵、電磁閥等提供電源及過(guò)程控制帶邏輯監(jiān)測(cè)); 樣品加熱電源:1臺(tái)(日本產(chǎn)控溫表可實(shí)現(xiàn)程序控溫)室溫-600°C±1°C,由熱電偶閉環(huán)反饋控制。 8、配套電源 真空計(jì)電源:1套 直流DC500W電源:2套 流量顯示、流量控制器:1套 9、備品備件:1套 |