AA320N原子吸收分光光度計(jì)技術(shù)參數(shù): | | | | | | |
(一)光學(xué)參數(shù) | | | | | | | | | |
工作波段:190.0~900nm,自動(dòng)快速設(shè)置波長(zhǎng)。 | | | | | | |
波長(zhǎng)準(zhǔn)確度:全波段≤±0.1nm | | | | | | | | |
波長(zhǎng)重復(fù)性:全波段≤±0.1nm | | | | | | | | |
分光系統(tǒng):C-T光柵單色器,焦距300mm,光柵刻線1800條/mm,閃耀波長(zhǎng)250nm, | | | |
光學(xué)帶寬0.1、0.2、0.4、1.0和2.0nm五檔自動(dòng)調(diào)整定位。單光束雙透鏡結(jié)構(gòu)。 | | | |
分辨率:優(yōu)于0.3nm。 | | | | | | | | |
(二)光源系統(tǒng) | | | | | | | | | |
1.全自動(dòng)六燈轉(zhuǎn)塔系統(tǒng)。 | | | | | | | | |
編碼元素?zé)?,自?dòng)定位。 | | | | | | | | |
元素?zé)裘}沖供電,0—20mA自動(dòng)設(shè)定,自動(dòng)對(duì)光,過(guò)流保護(hù),一支分析一支預(yù)熱。氘燈脈沖供電,0—200mA自動(dòng)設(shè)定,自動(dòng)平衡。 |
2.基線穩(wěn)定性:靜態(tài)≤±0.002A/30分鐘,動(dòng)態(tài)≤±0.003A/30分鐘,自動(dòng)校正基線漂移。 | | |
(三)原子化系統(tǒng) | | | | | | | | | |
火焰原子化系統(tǒng) | | | | | | | | | |
高效玻璃霧化器,霧化效率zui高可達(dá)38%,5mg/Lcu溶液吸光度高達(dá)0.95A。 | | | | |
全鈦燃燒頭,燃燒頭能夠自動(dòng)設(shè)定高度,前后位置可自動(dòng)調(diào)節(jié)。 | | | | |
火焰氣路具有欠壓自鎖功能,自動(dòng)穩(wěn)壓輸出功能,及防漏氣(乙炔)自鎖功能。防回火,火焰異常狀態(tài)監(jiān)控報(bào)警、異常壓力監(jiān)視等安全保護(hù)功能。 |
石墨爐原子化系統(tǒng) | | | | | | | | | |
zui大進(jìn)樣量可達(dá)70µL,解決了zui大進(jìn)樣量只能為20µL的問(wèn)題,不用濃縮樣品也可取得極低的檢出限。 | |
溫控范圍:室溫~1000℃ 功率控溫 | | | | | | | |
1000℃~3000℃ 光學(xué)控溫 控溫精度≤1%,溫度重現(xiàn)性≤0.5% | | | | | |
升溫速率:≥2000℃/S | | | | | | | | |
具有冷卻水流量不足,保護(hù)氣壓力不足時(shí)報(bào)警及自動(dòng)斷電保護(hù)功能,爐體過(guò)熱及過(guò)流保護(hù)、石墨管瞬時(shí)斷裂保護(hù)等功能。 |
階梯、斜坡及保持三種升溫方式。多達(dá)20個(gè)工步程序升溫。 | | | | | |
(四)檢測(cè)系統(tǒng) | | | | | | | | | |
典型元素?cái)?shù)據(jù) | | | | | | | | | |
火焰法: Cu元素 特征濃度:≤0.02μg/ml/1% | | | | | | |
檢出限:≤0.003μg/ml | | | | | | | | |
RSD%:≤0.6% | | | | | | | | | |
石墨爐法:Cd元素 特征量:≤0.310-12g | | | | | | | |
檢出限:≤0.510-13g | | | | | | | | |
RSD≤1% | | | | | | | | | | |
AA320N原子吸收分光光度計(jì)數(shù)據(jù)處理系統(tǒng) | | | | | | |
重復(fù)測(cè)量次數(shù)1—99次任選。讀數(shù)延遲時(shí)間0—100秒自動(dòng)設(shè)定。 | | | | | |
多達(dá)20個(gè)標(biāo)樣的各種校準(zhǔn)曲線,包括線性及非線性六種方程擬合方式以及濃度直讀和標(biāo)準(zhǔn)加入。 | | |
濃度計(jì)算方式:標(biāo)準(zhǔn)曲線法,標(biāo)準(zhǔn)加入法、內(nèi)插法。 | | | | | | |
校準(zhǔn)曲線單點(diǎn)斜率重置功能。 | | | | | | | | |
校準(zhǔn)曲線、分析報(bào)告,單元素和多元素分析結(jié)果匯總列表報(bào)告。信號(hào)圖譜、儀器條件、分析參數(shù)均可自動(dòng)打印,亦可全部存儲(chǔ)以備隨時(shí)調(diào)用。 |
本儀器為實(shí)驗(yàn)室用單光束儀器,原子化器為火焰原子化器/石墨爐原子化器,根據(jù)不同的原子化器和控制功能組成AA-7020系列。 |
基本配置 | | | | | | |
配置1 單火焰 | | | | | | | | | |
配置2 火焰+石墨爐 | | | | | | | | | |
配置3 單火焰、快速掃描 | | | | | | | | |
配置4 火焰+石墨爐、全自動(dòng)、六燈轉(zhuǎn)塔、快速掃描 | | | | | | |
配置5 火焰+石墨爐、全自動(dòng)、工作臺(tái)氣動(dòng)切換、燃燒頭自動(dòng)升降 | | | | | |
配置6 火焰、石墨爐(出口型) | | | | | | | | |
成套性 | | | | | | | |
a) 主機(jī) | | | | | | | | | | |
b) 工作站:電腦、打印機(jī)、軟件及接口 | | | | | | | |
c) 空壓機(jī) | | | | | | | | | |
d) 乙炔氣/氬氣 | | | | | | | | | |
e) 元素?zé)?/font> | | | | | | | | | |
f) 石墨管 | | | | | | | | | |
主要特點(diǎn): | | | | | | |
原子化器自動(dòng)快速切換(火焰+石墨爐配置) | | | | | | |
火焰/石墨爐原子化器安裝在同一特制平臺(tái)上,2秒實(shí)現(xiàn)自動(dòng)快速切換。此工作臺(tái)已獲得實(shí)用新型證書(shū),號(hào)ZL 2006 2 0023297.4。還可在1分鐘內(nèi)快速轉(zhuǎn)換為氫化物分析。 |
具有水平的快速尋峰掃描 | | | | | | | | |
狹縫自動(dòng)切換、燈電流、增益自動(dòng)、能量與負(fù)高壓自動(dòng)平衡、波長(zhǎng)自動(dòng)掃描和定位,這些工作40秒內(nèi)即可全部完成。 |
火焰/石墨爐原子化器、石墨爐電源一體化(火焰+石墨爐配置) | | | | | |
石墨爐電源內(nèi)置于主機(jī)內(nèi),體積小,功耗低(220V,功率4KW),和火焰/石墨爐原子化器、光學(xué)系統(tǒng)、檢測(cè)系統(tǒng)等整機(jī)一體化設(shè)計(jì),為結(jié)構(gòu)zui緊湊的AAS。石墨爐電源與主機(jī)一體化技術(shù)已獲得,號(hào)ZL2006 2 0023298.9。 |
光學(xué)系統(tǒng)懸浮設(shè)計(jì)——的設(shè)計(jì) | | | | | | | |
整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)懸浮于防震、隔熱光學(xué)底座上(這種光學(xué)基座已獲得,號(hào):ZL 2006 2 002396.X),周圍環(huán)境的震動(dòng)、溫度變化均不影響儀器穩(wěn)定性,非常實(shí)用于實(shí)驗(yàn)室工作條件欠佳的場(chǎng)所。 |
、成熟的縱向石墨管加熱技術(shù)(石墨爐配置) | | | | | | |
、成熟的縱向加熱技術(shù),zui高溫度可達(dá)3000℃,對(duì)原子化溫度在2600℃以上的Al、Ni、Pd、Sr等高溫元素的痕量分析也能夠輕松完成,能夠滿足環(huán)境檢測(cè)工作需要。 |
全鈦燃燒頭和霧化室 | | | | | | | | | |
采用全鈦燃燒頭和霧化室,經(jīng)模具鑄造而成,*變形,具有耐酸堿、*、長(zhǎng)壽命等特性,解決了霧化室采用聚丙烯制作而引起的老化、變形等問(wèn)題。 |
氘燈和自吸背景校正 | | | | | | | | | |
雙背景校正,使高鹽度、高背景樣品(如醬油,食品)能夠做到更為準(zhǔn)確的分析結(jié)果。 | | | |
安全可靠的自動(dòng)保護(hù) | | | | | | | | | |
安全的氣路自動(dòng)保護(hù)系統(tǒng):實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力,對(duì)乙炔泄漏、空氣欠壓、異常滅火等情況具有報(bào)警和斷電、斷氣、監(jiān)視等各種保護(hù)功能。 |
安全的石墨爐自動(dòng)保護(hù)系統(tǒng):具有冷卻水流量不足,保護(hù)氣壓力不足的報(bào)警及自動(dòng)斷電保護(hù)功 | | |