一、概述
ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),具備 1 全穆勒矩陣測量技術(shù), 2 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),3 超級消色差補(bǔ)償器設(shè)計(jì)技術(shù),4 納米光柵表征測量技術(shù) 等技術(shù)??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析,代表當(dāng)今橢偏行業(yè)比較高的技術(shù)水平。
■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素;
■ 配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬件模塊;
■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);
■ 可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測量信息量更大,測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn);
■ 基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測量獲得全穆勒矩陣的16個元素,相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測量信息;
■ 頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;
■ 集成對納米光柵的分析,可同時測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息;
三、產(chǎn)品應(yīng)用
■ 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等;
■ 半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu):納米光柵,套刻誤差,T型相變存儲器等;
■ 新材料,新物理現(xiàn)象研究:材料光學(xué)各向異性,電光效應(yīng)、彈光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、旋光效應(yīng)、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等;
■ 平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等;
■ 光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數(shù)測量,膜層厚度及表面粗糙度測量等;
■ 功能性涂料:增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層,以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等;
■ 生物和化學(xué)工程:有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等;
■ 塊狀材料分析:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。
四、技術(shù)規(guī)格
型號 | ME-L |
應(yīng)用 | 科研級/企業(yè)級 |
基本功能 | Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 |
分析光譜 | 380-1000nm(支持?jǐn)U展至193-2500nm) |
單次測量時間 | 1-8 s |
重復(fù)性測量精度 | 0.005nm |
精度 (直通測量空氣) | 橢偏參數(shù):Ψ= 45±0.05° Δ= 0±0.1° |
穆勒矩陣:對角元素 m=1±0.005 | |
非對角元素 m=0±0.005 | |
折射率重復(fù)性精度 | 0.0005 |
光斑大小 | 大光斑:2-4mm |
微光斑:200μm/100um | |
超微光斑:≤50um |
● 重復(fù)性精度指標(biāo)針對100nmSiO2/Si標(biāo)準(zhǔn)樣件30次重復(fù)性測量;
● 儀器具體技術(shù)參數(shù)需與實(shí)際功能模塊、配件有關(guān),表中數(shù)據(jù)僅供參考
五、可選配置
波段選擇
V : 380-1000nm VN :380-1650nm
UV :245-1000nm UN :210-1650nm
UV+ :210-1000nm DN :193-1650nm
DUV :193-1000nm UN+ :210- 2500nm
角度選擇
自動 :45-90°
手動 :45-90°(5°步進(jìn))
固定 :65°
其它選擇
Mapping選擇 : 4~12英寸(供參考,按需定制)
溫控臺: -193~1000℃(供參考,按需定制)