具備高過濾精度和高耐腐蝕性等特性的陶瓷過濾器,高水平的去除氣體管道內(nèi)的粒子,同時實現(xiàn)高選擇性。(可以滿足200℃高溫烘干、H20濃度消減到5ppb以下)
- 對于亞微米LSI工藝,須向使用點供應高純度工藝氣體。為此,超清潔管道也是一個主要問題。為了滿足這些要求,Pureron Japan開發(fā)了使用陶瓷作為過濾元件的全新過濾器,并在穩(wěn)定條件下實現(xiàn)了0.003μm的高精度過濾。蝕刻和薄膜所需的高選擇性。
- 去除諸如水和氧的雜質(zhì)對于尋求高選擇性是非常重要的。為了確保去除雜質(zhì),高溫烘烤是的。Pureron Japan的陶瓷過濾器就是從這個角度開發(fā)的,可以在200°C下進行高溫烘烤。通過免維護操作降低成本。
- 三層過濾結(jié)構(gòu),取決于顆粒直徑的大小,很少產(chǎn)生堵塞。與傳統(tǒng)過濾器相比,陶瓷過濾器還具有良好的耐久性和耐熱性。因此,生產(chǎn)停工造成的損失很小,實現(xiàn)了長期成本降低。
過濾烘烤:200°C,2小時
金屬帽
對于PGF-8型大流量,請聯(lián)系我們。
去除率:0.003μm
建議流速:10 ? 200L/min.
20℃時的設計壓力:17MPa(2465PSIG)
正常工作壓力:小于1MPa(145PSIG)
20℃時允許壓差:max.9.6MPa(1392PSIG)
連續(xù)使用溫度:max.120℃
烘烤溫度:200℃
外部泄漏量:2×10−11Pa?立方米/秒(He)以下 (或更少)
結(jié)構(gòu)要素
外殼:SUS316L內(nèi)面粗度
粗糙度:Rmax0.7μm以下 (或更少)
元件:氧化鋁陶瓷、Al2O3
密封:PTFE
接頭:1/4”、3/8”、1/2”、3/4”墊片密封、壓縮密封等