CX-9600全譜真空型直讀光譜儀器優(yōu)勢
1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,用短時間達(dá)到優(yōu)分析效果;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性;
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小;自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
6、開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性;銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;
10、合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣;
11、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
12、高性能DSP及ARM處理器,具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;
13、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
14、核心器件全部,保證了儀器品質(zhì)。CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;無須變動增加硬件,基體范圍內(nèi)通道改變增加不需費用,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;體積小、重量輕, 移動安裝方便 ;高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 。
技術(shù)參數(shù):
光學(xué)系統(tǒng)-光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu) |
光學(xué)系統(tǒng)-探測器 | CCD/CMOS |
氣 體 | 真空 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min 待機時無須流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹 掃 | 點擊自吹掃功能 |
補 償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
類 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)-處理器 | ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)-接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
輸 入 | 220VAC,50Hz |
功 率 | 分析時700W,待機狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(+-5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
主機尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量 | 120Kg |