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PlasmaQuant ® MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

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公司名稱東譜科技（廣州）有限責(zé)任公司
品牌
型號
所在地廣州市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2024/5/31 8:23:51
訪問次數(shù)90

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公司介紹主營產(chǎn)品

東譜科技（廣州）有限責(zé)任公司是一家專業(yè)的光譜學(xué)類科研設(shè)備以及技術(shù)方案服務(wù)商。公司位于廣州市天河區(qū)核心商圈，坐落于天河軟件科技園（長興智匯園區(qū)），毗鄰華南理工大學(xué)等高校。東譜科技由高校專業(yè)研究人員、行業(yè)工程師聯(lián)袂發(fā)起，核心團(tuán)隊(duì)成員均獲得光機(jī)電類碩博士學(xué)位并且在國際實(shí)驗(yàn)室及企業(yè)具有超過5-10年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，擁有出色的光電子前沿科學(xué)研究及光機(jī)電產(chǎn)品開發(fā)的實(shí)力。公司業(yè)務(wù)涵蓋光譜學(xué)設(shè)備研制、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)等方面。目前，主營業(yè)務(wù)包括以下四個(gè)方面：1）科研儀器開發(fā)；2）科研儀器經(jīng)銷；3）前沿光譜學(xué)系統(tǒng)定制；4）譜學(xué)測量服務(wù)。已研制出一系列光譜檢測系統(tǒng)，為華南師范大學(xué)、華南理工大學(xué)等眾多高?？蛻籼峁┝烁鞣N完善的解決方案和大量的符合要求的產(chǎn)品和服務(wù)。公司秉承“Born for Science”的理念創(chuàng)立，堅(jiān)持把產(chǎn)品開發(fā)和前沿光譜學(xué)研究相結(jié)合，致力于為研究人員提供更好的譜學(xué)儀器及技術(shù)服務(wù)。公司在營銷和服務(wù)體系上始終堅(jiān)持“以終端客戶為中心”的理念，堅(jiān)決以滿足一線科研人員的需求作為首要目標(biāo)，力求為研究人員提供專業(yè)的服務(wù)和優(yōu)秀的產(chǎn)品。

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

PlasmaQuantMSICP-MS：(1)的等離子體：獲得穩(wěn)定強(qiáng)勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規(guī)儀器的一半

PlasmaQuant ® MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀產(chǎn)品信息

PlasmaQuant MS ICP-MS ：

(1)的等離子體：獲得穩(wěn)定強(qiáng)勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規(guī)儀器的一半；

(2)的iCRC集成式碰撞反應(yīng)池：有效去除多原子分子干擾，不損失其它干擾元素靈敏度的前提下獲得更好的碰撞反應(yīng)效果；

氣體切換快速，無需額外維護(hù)；

(3)ReflexION離子反射技術(shù)：3D聚焦離子反射鏡獲得的靈敏度，其靈敏度達(dá)到同類產(chǎn)品的5倍以上；

(4)高解析四極桿：3MHz的掃描速度，可獲得的質(zhì)譜分離；檢測駐留時(shí)間低至50μs；

(5)全數(shù)字脈沖技術(shù)檢測器：ICP-MS領(lǐng)域中的全數(shù)字檢測器，線性范圍達(dá)10個(gè)數(shù)量級，無需頻繁的脈沖和模擬雙模式交叉校準(zhǔn)，無需稀釋即可進(jìn)行痕量到常量的元素分析，使用壽命超長；

(6)強(qiáng)性能優(yōu)異的真空系統(tǒng)：冷開機(jī)5min即可達(dá)到做樣標(biāo)準(zhǔn)，真空度可達(dá)10^-9τ；業(yè)內(nèi)的雙分子渦輪泵，一般負(fù)載低于50%，使用壽命更長。

這些技術(shù)的采用讓PlasmaQuant MS 在靈敏度、線性范圍、檢出限、穩(wěn)定性等方面更上一個(gè)新臺(tái)階。其還可配備潔凈室組件、樣品導(dǎo)入系統(tǒng)、自動(dòng)進(jìn)樣器等配件，可靈活、快速實(shí)現(xiàn)普通靈敏度模式和高靈敏度模式之間的切換，滿足日常分析和研究級的各種應(yīng)用。

特點(diǎn)：

節(jié)省的等離子體：獲得穩(wěn)定強(qiáng)勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規(guī)儀器的一半；
? 的iCRC集成式碰撞反應(yīng)池：有效去除多原子分子干擾，不損失其它干擾元素靈敏度的前提下獲得更好的碰撞反應(yīng)效果；氣體切換快速，無需額外維護(hù)；
? ReflexION離子反射技術(shù)：3D聚焦離子反射鏡獲得的靈敏度，其靈敏度達(dá)到同類產(chǎn)品的5倍以上；
? 高解析四極桿：3MHz的掃描速度，可獲得的質(zhì)譜分離；檢測駐留時(shí)間低至50μs；
? 全數(shù)字脈沖技術(shù)檢測器：線性范圍達(dá)10個(gè)數(shù)量級，無需頻繁的脈沖和模擬雙模式交叉校準(zhǔn)，無需稀釋即可進(jìn)行痕量到常量的元素分析，使用壽命超長；