真空鍍膜冷水機(jī)
真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
中頻設(shè)備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng),電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
(主要是圓柱靶)為什么也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射槍變形,所以它有一個(gè)水套來冷卻射槍。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中***的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。
從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中***的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。
中頻真空鍍膜機(jī)一般要配一臺(tái)冷水機(jī)作為鍍膜機(jī)(主要是圓柱靶)的冷卻設(shè)備
中頻設(shè)備必須加冷卻水原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)
電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
真空鍍膜冷水機(jī)是寶馳源公司研發(fā)生產(chǎn)的高效節(jié)能的制冷設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種真空鍍膜,表面處理領(lǐng)域。超高真空濺射儀、X光機(jī)、真空爐、鍍膜機(jī)、加速器等科學(xué)儀器的理想配套設(shè)備。