工業(yè)用純水高純水設(shè)備:
一、純水和高純水水質(zhì)指標和使用行業(yè)*：
水質(zhì)指標 | *使用行業(yè) |
電導(dǎo)率≤10μS/CM | 動物飲用水(醫(yī)藥)、普通化工原料配料用水、食品行業(yè)配料用水 普通電鍍行業(yè)沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電導(dǎo)率≤4μS/CM | 電鍍化學(xué)品生產(chǎn)用水、化工行業(yè)表面活性劑生產(chǎn)用水、科研純化水、 白酒生產(chǎn)用純水、啤酒生產(chǎn)用純水、民用飲用純凈水用水、普通化妝品生產(chǎn)用水、血透純水機用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率5~10MΩ.CM | 鋰電池生產(chǎn)用水、蓄電池生產(chǎn)用水、化妝品生產(chǎn)用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率:10~15MΩ.CM | 動物實驗室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥15 MΩ.CM | 醫(yī)藥生產(chǎn)用無菌水、口服液用水、高級化妝品生產(chǎn)用去離子水、電子行業(yè)鍍膜用水、光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、*磁性材料用純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥17 MΩ.CM | 磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)用水、*金屬材料用水、防老化材料實驗室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級新材料生產(chǎn)用水、航天新材料生產(chǎn)用水、太陽能電池生產(chǎn)用水、水晶片生產(chǎn)用水、超純化學(xué)試劑生產(chǎn)用水、實驗室用高純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥18 MΩ.CM | ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、化驗室用水、電子級無塵布生產(chǎn)用水等其它有相同水質(zhì)要求的 |
3.電子工業(yè)超純水設(shè)備特點 電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
4.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水；
3、實驗室和中試車間用超純水；
4、汽車、家電表面拋光處理；
5、光電子產(chǎn)品；
6、其他高科技精微產(chǎn)品；
7、超純材料和超純化學(xué)試劑
8、實驗室和中試車間
電去離子（EDI）系統(tǒng)概述
電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。這種*技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。
EDI連續(xù)電除鹽水處理設(shè)備
電去離子（EDI）系統(tǒng)的工作原理
電去離子（EDI）系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。
自來水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、矽等溶解鹽。這些鹽是由負電離子（負離子）和正電離子（正離子）組成。反滲透可以除去其中超過99％的離子。自來水也含有微量金屬，溶解的氣體（如CO2）和其他必須在工業(yè)處理中去除的弱離子化的化合物（如矽和硼）。
交換反應(yīng)在模組的純化學(xué)室進行，在那裏陰離子交換樹脂用它們的氫氧根據(jù)離子（OH）來交換溶解鹽中的陰離了（如氯離子C1）。相應(yīng)地，陽離子交換樹脂用它們的氫離子（H）來交換溶解鹽中的陽離子（如Na）。
在位於模組兩端的陽極（+）和陰極（-）之間加一直流電場。電勢就使交換到樹脂上的離子沿著樹脂粒的表面遷移并通過膜進入濃水室。陽極吸引負電離子（如OH，CI）這些離子通過陰離子膜進入相臨的濃水流卻被陽離子選擇膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽離子（如H，Na）。這些離子穿過陽離子選擇膜，進入相臨的濃水流卻被陰離子膜陰隔，從而留在濃水流中。當水流過這兩種平行的室時，離子在純水室被除去并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模組中帶走。在純水及濃水中離子交換樹脂的使用是ElectropupreEDI技術(shù)和的關(guān)鍵。一個重要的現(xiàn)象在純水室的離子交換樹脂中發(fā)生。在電勢差高的局部區(qū)域，電化學(xué)反應(yīng)分解的水產(chǎn)生大量的H和OH。在混床離子交換樹脂中局部H和OH的產(chǎn)生使樹脂和膜不需要添加化學(xué)藥品就可以持續(xù)再生。
EDI 膜堆是由夾在兩個電極之間一定對數(shù)的單元組成。在每個單元內(nèi)有兩類不同的室：待除鹽的淡水室和收集所除去雜質(zhì)離子的濃水室。淡水室中用混勻的陽、陰離子交換樹脂填滿，這些樹脂位於兩個膜之間：只允許陽離子透過的陽離子交換膜及只允許陰離子透過的陰離子交換膜。樹脂床利用加在室兩端的直流電進行連續(xù)地再生，電壓使進水中的水分子分解成 H＋及 OH－，水中的這些離子受相應(yīng)電極的吸引，穿過陽、陰離子交換樹脂向所對應(yīng)膜的方向遷移，當這些離子透過交換膜進入濃室后， H ＋和 OH－結(jié)合成水。這種 H＋和 OH－的產(chǎn)生及遷移正是樹脂得以實現(xiàn)連續(xù)再生的機理。
當進水中的 Na＋及 CI－等雜質(zhì)離子吸咐到相應(yīng)的離子交換樹脂上時，這些雜質(zhì)離子就會發(fā)生象普通混床內(nèi)一樣的離子交換反應(yīng)，并相應(yīng)地置換出 H＋及 OH－。一旦在離子交換樹脂內(nèi)的雜質(zhì)離子也加入到 H＋及 OH－向交換膜方向的遷移，這些離子將連續(xù)地穿過樹脂直至透過交換膜而進入濃水室。這些雜質(zhì)離子由於相鄰隔室交換膜的阻擋作用而不能向?qū)?yīng)電極的方向進一步地遷移，因此雜質(zhì)離子得以集中到濃水室中，然后可將這種含有雜質(zhì)離子的濃水排出膜堆。
電去離子（EDI）系統(tǒng)的優(yōu)點
1. 無需酸堿再生： 在混床中樹脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生， 而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護了環(huán)境。
2. 連續(xù)、簡單的操作： 在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復(fù)雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復(fù)雜的操作程序，操作大大簡便化。
3. 降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計， 使EDI在生產(chǎn)工作時能方便維護。
電去離子（EDI）系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域
1、電廠化學(xué)水處理
2、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水
3、食品、飲料、飲用水的制備
4、小型純水站，團體飲用純水
5、精細化工、精尖學(xué)科用水
6、其他行業(yè)所需的高純水制備
7、制藥工業(yè)工藝用水
8、海水、苦咸水的淡化
