一、高純水設(shè)備(EDI)概述
EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備,作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備,可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用高純水。
二、高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理
連續(xù)電除鹽(EDI,Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子,同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下,分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的,因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置,生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下:EDI是利用陰、陽(yáng)離子膜,采用對(duì)稱堆放的形式,在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹(shù)脂,分別在直流電壓的作用下,進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下,水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-,這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生,使得純水度越來(lái)越高,所以,輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。
三、EDI高純水設(shè)備的組成部分
3.1 采用美國(guó)進(jìn)口Electropure XL-400模塊5塊;
3.2 美國(guó)Hanna電阻率、電導(dǎo)率在線監(jiān)側(cè)儀表一組;
3.3 電源控制系統(tǒng):主要電器元件為施乃得、歐姆龍及國(guó)產(chǎn)優(yōu)質(zhì)器件,采用PLC控制,電動(dòng)球閥、施乃得電器元件;
四、EDI高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)
4.1 可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水,無(wú)需因樹(shù)脂再生而停機(jī);
4.2 無(wú)污染物排放,既環(huán)保又省去了廢液處理的投資;
4.3 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,節(jié)省空間,同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn);
4.4 出廠完成裝置調(diào)試,現(xiàn)場(chǎng)工作量小,上崗培訓(xùn)容易;
4.5 日常保養(yǎng),操作簡(jiǎn)單,勞動(dòng)強(qiáng)度低。