二氧化lv發(fā)生器性能及技術(shù)參數(shù)：--飲用水消毒設(shè)備廠家
① 反應(yīng)系統(tǒng)采用耐高溫、耐腐蝕的新材料；
② 采用化學(xué)法負(fù)壓曝氣工藝，結(jié)構(gòu)合理、使用壽命長。
③ 電腦控制加熱、帶缺水、缺料、欠壓報(bào)警。
④ 以lv酸鈉和鹽酸為原料，產(chǎn)出的混合氣體中二氧化lv濃度占80%以上。
⑤ 微過濾技術(shù)讓水射器*堵塞，*避免了氣體泄露。
⑥有效lv產(chǎn)量（100g/h） 消耗功率（1.0kw） 壓力水≥壓力（0.20Mpa） 管徑（15 DN）
⑦原料的配比為；31%的鹽酸溶液與33%的lv酸鈉溶液按1：1比例投加。
二氧化lv發(fā)生器成本分析：
（以每噸水計(jì)）
項(xiàng)目/水源 | 地表水 | 地下水 | 工業(yè)冷卻水 | 醫(yī)院污水 | 游泳池水 |
二氧化lv投加量（克） | 1.0 | 0.5 | 5.0 | 35 | 3.0 |
固體lv酸鈉（克） | 1.5 | 0.75 | 7.5 | 52.5 | 4.5 |
工業(yè)鹽酸31%（克） | 4.5 | 2.25 | 22.5 | 157.5 | 13.5 |
成本合計(jì)（元） | 0.0102 | 0.0057 | 0.225 | 0.357 | 0.0306 |
注：一、固體lv酸鈉的市場價(jià)為4.4元/千克；
二、31%的鹽酸溶液市場價(jià)為0.8元/千克；
三、二氧化lv投加參考量：
1、飲用水消毒：地下水：0.3—0.5克/m3；地表水：0.8—1.0克/ m3；
2、工業(yè)循環(huán)水冷卻滅藻殺菌：5—8克/ m3；（每次投加量）；
3、醫(yī)院污水消毒：20—35克/ m3；
4、游泳池水消毒：3—5克/ m3（每次投加量）；
HE系列二氧化lv發(fā)生器的性能特點(diǎn)：--飲用水消毒設(shè)備廠家
1、真空攪拌技術(shù)：HE系列二氧化lv發(fā)生器設(shè)備內(nèi)部配備有磁力攪拌器，是目前國內(nèi)*一家采用*的真空攪拌技術(shù)來生產(chǎn)二氧化lv消毒液的設(shè)備。設(shè)備安全穩(wěn)定，反應(yīng)速率快，二氧化lv收率高，運(yùn)行費(fèi)用低。
2、全封閉設(shè)計(jì)無泄漏：由于HB系列二氧化lv發(fā)生器采用了全封閉的設(shè)計(jì)，當(dāng)設(shè)備停止運(yùn)行的時(shí)候，設(shè)備內(nèi)部的二氧化lv氣體就不會(huì)從設(shè)備內(nèi)部溢出，不會(huì)造成泄漏污染。
3、動(dòng)力水消耗量低：射流泵僅抽吸二氧化lv發(fā)生器主機(jī)產(chǎn)生的二氧化lv和lv氣，相較需要抽吸二氧化lv、lv氣和大量空氣的負(fù)壓曝氣工藝來講，動(dòng)力水的消耗量低。
4、加熱能耗?。簝H加熱反應(yīng)液，相較需要同時(shí)加熱進(jìn)入反應(yīng)釜內(nèi)大量空氣的負(fù)壓曝氣工藝來講，加熱功耗小。
5、自動(dòng)化程度高：具有自動(dòng)控溫、余l(xiāng)v顯示、流量反饋、液位保護(hù)、欠壓報(bào)警等自動(dòng)控制功能。可對接多種通訊協(xié)議，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程精確控制。
6、產(chǎn)品豐富：有HE系列全自動(dòng)二氧化lv發(fā)生器、HJ系列半自動(dòng)二氧化lv發(fā)生器和HB系列二氧化lv發(fā)生器等三個(gè)系列產(chǎn)品。
7、專業(yè)化的的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)：可根據(jù)用戶的各種要求來設(shè)計(jì)用戶需要的系統(tǒng)集成。
二氧化lv發(fā)生器詳細(xì)操作說明：--
1．把本體設(shè)備管道正確連接安裝好。
2.將lv酸鈉水溶液與鹽酸溶液配置于溶液箱內(nèi)，打開原水進(jìn)水閥，啟動(dòng)微電腦控制儀,把溫度設(shè)置在40-55度之間(溫度設(shè)置本公司在出廠前已調(diào)整好。具體詳見電器說明書，)
3.打開原水進(jìn)水閥,打開二氧化lv出藥閥, 關(guān)閉鹽酸箱吸真空閥。 同時(shí)啟動(dòng)lv酸鈉和鹽酸計(jì)量泵，根據(jù)出藥量調(diào)動(dòng)計(jì)量泵工作頻率。
4.把微電腦控制儀設(shè)置在自動(dòng)運(yùn)行即可(詳見電器說明書)。
5.關(guān)機(jī)時(shí)應(yīng)提前一小時(shí)關(guān)閉計(jì)量泵,停止加料,使水射器將設(shè)備中的氣體盡量抽完,以防止滯后所產(chǎn)生的氣體外溢,停料1小時(shí)后關(guān)閉原水進(jìn)水閥。
二氧化lv發(fā)生器設(shè)備清洗
設(shè)備主機(jī)下部有排污口,可進(jìn)行清洗排污,清洗時(shí)在水射器正常工作狀態(tài)下,打開反應(yīng)室放空閥,關(guān)閉反應(yīng)室空氣進(jìn)口閥,打開反應(yīng)室反沖洗閥,約半小時(shí)即可,然后關(guān)閉反應(yīng)室放空閥,關(guān)閉反應(yīng)室反沖洗閥,打開反應(yīng)室空氣進(jìn)口閥,關(guān)閉原水進(jìn)水閥。
注意：正常情況下,應(yīng)該每月清洗一次。
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