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深圳海納光學(xué)有限公司
主營產(chǎn)品： 激光護(hù)目鏡，可飽和吸收鏡，衍射光學(xué)元件，光束整形器，太赫茲透鏡，太陽能模擬器，太赫茲相機(jī)，激光測量儀，離軸拋物面鏡，微透鏡陣列 |
公司信息
| 參考價 | 面議 |
- 型號 CIMA
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 所在地 深圳市
聯(lián)系方式：劉先生查看聯(lián)系方式
更新時間：2021-08-09 17:57:48瀏覽次數(shù)：897
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| 空間分辨率(IFOV) | 1mrad | 幀頻 | 1fps |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品類別 | 高光譜儀/高光譜成像儀 | 成像方式 | 三維 |
| 成像分辨率 | 1 | 工作原理 | 其他 |
| 光譜范圍 | 1nm | 光譜分辨率 | 1nm |
| 使用狀態(tài) | 機(jī)載/地面均可 | 視場(TFOV) | 1° |
CIMA高光譜共聚焦顯微鏡，400-1700nm，超高光學(xué)分辨率<0.6nm
加拿大Photon ect生產(chǎn)的CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)可提供400-1700nm范圍內(nèi)的光譜和空間信息，這種高光譜共聚焦顯微鏡搭配靈敏的相機(jī)，可獲得300波長/秒的信息，因此CIMA高光譜共聚焦顯微鏡本質(zhì)上是一種高光譜顯微成像系統(tǒng)。
加拿大Photon ect的CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)規(guī)格：
光譜范圍 | 400-1700nm | |
光譜分辨率 | VIS <0.2 nm（可根據(jù)要求定制） | IR <0.6 nm（可根據(jù)要求定制） |
空間分辨率 | 受衍射極限限制 | |
相機(jī) | 背感光式CCD | InGaAs線性陣列 |
激發(fā)波長 | 980nm（可選其他波長） 3個激光輸出口 UHP 130W汞燈 | |
顯微鏡特點 | 科研級別，可反向放置 | |
物鏡 | 20×，40×，60× | 50×，100× |
其他規(guī)格可定制 | ||
波長分辨率精度 | >300波長/秒 | ~100波長/秒 |
XZY機(jī)械平臺尺寸 | 120×75×0.15mm | |
數(shù)據(jù)處理 | 空間濾波，數(shù)據(jù)統(tǒng)計，光譜提取，數(shù)據(jù)歸一化，光譜標(biāo)定 | |
高光譜數(shù)據(jù)格式 | HDF5，FITS | |
軟件配置 | 電腦（Windows 10-64 bits）,PHySpec™控制分析軟件（含電腦） | |
電源配置 | 120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz | |
共聚焦模式 | 掃描速度：300um×300um（20×物鏡）、100um×100um（60×物鏡） 電源配置：120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz | |
試管模式 | 試管尺寸：標(biāo)準(zhǔn)10mm×10mm（3.5mL） | |
熒光模式 | 相機(jī)：用于熒光和樣品可視化的百萬像素彩色相機(jī) 照明燈：UHP 130W汞燈 高達(dá)6種濾波管 | |
Photon ect的高光譜成像顯微鏡特點和優(yōu)點：
-包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍（400-1400nm）
-成像效率高
-光學(xué)分辨率<0.6nm
-科研級別的顯微鏡，可正放或倒放
-物鏡為20×，40×，60×或50×，100×，還可根據(jù)需求定制
Photo ect的高光譜成像顯微鏡應(yīng)用：
-進(jìn)行復(fù)雜納米材料的空間分布和光譜特性的同步研究，例如上轉(zhuǎn)換納米顆粒和量子點
-進(jìn)行體外或體內(nèi)高分辨率高光譜顯微鏡檢查
-開發(fā)基于熒光信號隨環(huán)境變化的光譜漂移的新型傳感器
該高光譜顯微鏡的光學(xué)分辨率在可見光范圍可低至0.2 nm，在紅外范圍可低至0.6 nm，也可根據(jù)要求定制。高光譜成像顯微鏡VIS系列搭配背感光式CCD相機(jī)，高光譜成像顯微鏡IR系列搭配InGaAs線性陣列相機(jī)，屬于科研級別的高光譜顯微成像系統(tǒng)，可以倒置。
CIMA高光譜共聚焦顯微鏡提供三種采集模式: 共聚焦模式、試管模式、熒光模式。光源為UHP 130W汞燈，激發(fā)波長為980nm（可選其他波長），包含3個激光輸出口。
高光譜成像顯微鏡可作為研究鑭系分子單晶體光學(xué)各向異性的工具，如下圖顯示了高光譜成像儀對鑭系單晶體分子的高光譜分析過程。目標(biāo)1顯示了圖2中選擇的波長，圖3顯示了613.26nm在水平、豎直方向的強度剖析圖，圖4顯示了在目標(biāo)5、目標(biāo)6、目標(biāo)9中提取的發(fā)射波長。
CIMA高光譜共聚焦成像系統(tǒng)可用于加快或降低稀土摻雜LiYF4微粒的微波輔助溶劑熱合成過程的分析。左下圖(A) 代表高光譜成像儀對Yb3+/Tm3+單微粒光致發(fā)光的圖像研究，右下圖(B)代表 Yb3+/ Er3+單粒子光致發(fā)光研究。目標(biāo)1顯示了從目標(biāo)2提取的高光譜轉(zhuǎn)換發(fā)射光譜圖像。在目標(biāo)2的光譜假色圖像中，顏色越亮則強度越大，顏色越弱強度越小。在目標(biāo)3中顯示了被研究的微粒大小尺寸對比。
Photon ect高光譜成像儀，顯微鏡
Photon ect高光譜成像儀，顯微鏡
