納米粒徑及Zeta電位分析儀Nicomp Z3000介紹
NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀采用的設(shè)計理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計，充分有效地融合了動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù)，即可以多角度（步長0.9μm;）檢測分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測量Zeta電位。粒度測試范圍：粒度測試范圍：0.3 nm – 10 μm。
NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀通過檢測分析膠體顆粒的電泳遷移率測量Zeta電位。Zeta電位是對顆粒之間相互排斥或吸引力的強(qiáng)度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo)，Zeta電位（正或負(fù)）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過粒子之間的靜電排斥力來保持穩(wěn)定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集，膠體也會越穩(wěn)定。NICOMP 380 Z3000結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機(jī)測試納米粒子分布和Zeta電勢電位。
應(yīng)用行業(yè)：磨料、化學(xué)機(jī)械拋光液、陶瓷、粘土、涂料、污染監(jiān)測、化妝品、乳劑、食品、液體工作介質(zhì)/油、墨水、 乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等
自動滴定儀
NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀在增加自動滴定模塊后，可以一次性使用同一樣品在不同PH值或不同離子濃度的條件下進(jìn)行一系列測試，實現(xiàn)了在等電點測試的技術(shù)難題。
相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技術(shù)
PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技術(shù)，用相位（Phase）變化的分析取代原 先頻譜的漂移，不僅使 Zeta 電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對油、有機(jī)物體系同樣能提供 Zeta 電位的分析。
NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀特點
同機(jī)測試懸浮液體的粒徑分布以及ZETA電勢電位
Zeta電位運用了多普勒電泳遷移原理以及zui新的相位分析散射法可以測試水相和有機(jī)相的樣品
檢測范圍寬廣，亞微米顆粒均可以被檢測
樣品測試量小
高辨析率
結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差小于1%
99% 樣品可回收li用
可搭載自動滴定儀, 自動稀釋器和自動進(jìn)樣器
無須校準(zhǔn)
一次性進(jìn)樣，避免交叉污染樣品
可選配大功率激光發(fā)生器以及jun品級APD雪崩二極管檢測器來檢測粒徑小于1nm的顆粒
技術(shù)參數(shù)：
粒徑檢測范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
Zeta電位檢測范圍 | 粒度0.3 nm-100 μm |
分析方法 | 粒徑：動態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 Nicomp 無約束自由擬合多峰算法； 電位：電泳光散射(ELS)技術(shù)和相位分析光散射法 |
pH值范圍 | 2 - 12 |
溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
激光光源（可選） | 5 mW氦氖光源； 15 mW, 35 mW,50 mW激光光源； 100 mW激光光源（紅）； 20 mW，50 mW，100 mW激光光源（藍(lán)/綠） |
檢測角度（可選） | 90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
檢測器（可選） | PMT（光電倍增管）， CMP（4倍增益放大） APD雪崩二極管（7倍增益放大） |
高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
可用溶劑 | 水相,絕大多數(shù)有機(jī)相 |
樣品池 | 標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）； 1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，zui小進(jìn)樣量10μL） |
選配模塊 | 高濃度背散射；自動稀釋模塊，自動進(jìn)樣器，多角度檢測器，高能激光發(fā)生器，高增益檢測器，21CFR PART11規(guī)范軟件，在線模塊。 |
分析軟件 | Windows 兼容軟件； 符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件（可選） |
驗證文件 | 有 |
電壓 | 220 - 240 VAC，50Hz 或100 - 120 VAC，60Hz |
計算機(jī)配置要求 | Windows XP及以上版本windows操作系統(tǒng)，40Gb硬盤，1G內(nèi)存，光驅(qū)，USB接口，串口（COM口） |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg（與配置有關(guān)） |
電泳光散射法（ELS）與粒子的動電（Zeta）電位：
ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射。它的光散射理論基礎(chǔ)是 準(zhǔn)彈性碰撞理論，只是在實驗時在式樣槽中多加一個外電場，帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應(yīng)的動力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此實驗測得譜線的漂移，就 可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位。
相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技術(shù)
PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技術(shù)，用相位（Phase）變化的分析取代原 先頻譜的漂移，不僅使 Zeta 電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對油、有機(jī)物體系同樣能提供 Zeta 電位的分析。
動態(tài)光散射原理
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強(qiáng)度，散射強(qiáng)度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象（或布朗運動）導(dǎo)致光強(qiáng)不斷波動。光強(qiáng)的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強(qiáng)波動就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴(kuò)散率。zui終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。
如下是Nicomp 380納米粒徑分析儀的檢測原理簡圖：
大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出zui接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，li用一組的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司的粒徑分布表達(dá)方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。
有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能，以此來補(bǔ)償測試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質(zhì)體。
Nicomp分析方法是一種專li的高分辨率的去卷積算法，它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計粒徑分布。在歷已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例），甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。
NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀廣泛適用于檢測懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。
