一、半導(dǎo)體顯象管用超純水設(shè)備概述

    半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

二、半導(dǎo)體顯象管用超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

     1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

　　 2、超純材料和超純化學(xué)試劑；

　　 3、實驗室和中試車間；

　　 4、汽車、家電表面拋光處理；

　　 5、光電產(chǎn)品；

　　 6、其他高科技精微產(chǎn)品；

三、工藝流

1、一級反滲透 混床（出水2---15mΩ.cm）

原水箱—原水泵—多介質(zhì)過濾器—活性炭過濾器—軟水器→保安過濾器→高壓泵—反滲透主機→純水箱—純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器—儲水罐→純水輸送泵→用水點

2、一級反滲透 EDI系統(tǒng)（出水5---15mΩ.cm）

原水箱---原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵---反滲透主機→純水箱—EDI系統(tǒng)→儲水罐→純水輸送泵→用水點

3、二級反滲透 EDI系統(tǒng)（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級高壓泵—一級反滲透主機→PH調(diào)節(jié)—二級級高壓泵—二級反滲透—純水箱—脫氣裝置—微孔過濾器→EDI系統(tǒng)→拋光混床系統(tǒng)—儲水罐→純水輸送泵→用水點

四、電子超純水設(shè)備特點

     設(shè)備通常由全自動多介質(zhì)過濾器，全自動活性碳過濾器，全自動軟化器、精密過濾器等構(gòu)成前期預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。