plasma真空等離子清洗機(jī)供應(yīng)商：誠(chéng)峰智造

真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L

名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中頻電源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

層數(shù)（Electrode of plies）

6（Option）

有效處理面積（Area）

500（L）*500（W）（Option）

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品特點(diǎn)：處理空間大，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運(yùn)行。

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。

保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。

高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的支持。

應(yīng)用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，工業(yè)等。