超純水設(shè)備是采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。
　　一、EDI 超純水設(shè)備系統(tǒng)概述

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。二、制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程
　　EDI 超純水設(shè)備電子行業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種：
　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床（復(fù)床）→混床→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)
　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→（EDI）泵→保安過(guò)濾器→紫外線→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)