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SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備

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更新時間：2022-05-22 09:18:38瀏覽次數(shù)：183次

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深圳市嘉士達(dá)精密儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備產(chǎn)品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)

詳細(xì)介紹

SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備

產(chǎn)品簡介

橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成*偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進(jìn)入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的。

SE200BA-M300型號實現(xiàn)250nm到1000 nm超長波段的探測，可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。

設(shè)備配置

型號：SE200BM-M300

探測器：陣列探測器

光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源

測量角度變化：手動調(diào)節(jié)

平臺：ρ-θ配置的自動成像

軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

計算機(jī)：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整機(jī)及零備件保修

波長范圍：250nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸：1mm至5mm可變

入射角范圍：0到90度

入射角變化分辨率：5度間隔

樣品尺寸：zui大直徑為300mm

基板尺寸：zui多可至20毫米厚

測量厚度范圍*：0nm〜10μm

測量時間：約1/位置點(diǎn)

精度*：優(yōu)于0.25％

重復(fù)性誤差*：小于1 Ǻ

參數(shù)規(guī)格

波長范圍：250nm 到 1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm 至 5mm 可變
入射角范圍：10 到 90 度
入射角變化分辨率：0.01 度
樣品尺寸：zui大直徑為 300mm
基板尺寸：zui多可至 20 毫米厚

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