PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績(jī)的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括有：一個(gè)*微集中掃描的X射線來源，的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析

詳細(xì)介紹

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績(jī)的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括有：一個(gè)*微集中掃描的X射線來源，的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析，一個(gè)五軸精密的樣品臺(tái)和負(fù)責(zé)全自動(dòng)樣品傳送的機(jī)械手臂，與及一個(gè)自動(dòng)化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制的儀器操作平臺(tái)。
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀增加了這些革命性的技術(shù)性能和生產(chǎn)力，再一次提供了zui高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當(dāng)前和未來的XPS需要。
優(yōu)點(diǎn)：
容易使用：無論您是在分析一個(gè)薄膜樣品、有機(jī)聚合物、一個(gè)大的塑料鏡片，不銹鋼刀片又或是焊錫球;所有的儀器設(shè)置和設(shè)定都是相同的。用者只需用鼠標(biāo)點(diǎn)在一個(gè)光學(xué)圖像單擊選擇一個(gè)或多個(gè)分析地區(qū)，加上雙光束中和系統(tǒng)和自動(dòng)Z-軸高度調(diào)整功能，就可以透過儀器軟件的自動(dòng)隊(duì)列執(zhí)行所有分析。整個(gè)操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因不一樣樣品成份而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊；一切的操作都可以自動(dòng)的完成。
薄膜分析：Quantera II 不僅提供了無機(jī)薄膜樣本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60離子槍對(duì)有機(jī)薄膜得出非常*的深度分析結(jié)果。
掃描：PHI使用了*的聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的，而此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會(huì)再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽極上時(shí)，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會(huì)作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為7.5微米以下到400微米以上。
微區(qū)光譜：在光學(xué)顯微鏡，在這透明的聚合物薄膜表面上是沒有發(fā)現(xiàn)任何污染物的。但是如以下圖５中所示，使用二次電子影像時(shí)就立即顯示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II儀器就可以利用一個(gè)直徑為20微米的X射線束得到確定的氟碳污染物。