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青州市中拓鍍膜機(jī)械科技有限公司
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更新時(shí)間:2022-08-25 14:33:58瀏覽次數(shù):420次
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磁控鍍膜機(jī)可分為直流濺射;射頻濺射;磁控濺射;反應(yīng)濺射四種。
目前,直流濺射(又稱二次濺射)因其濺射壓力高、電壓高、濺射速率低、薄膜不穩(wěn)定等缺點(diǎn)而很少使用
在直流濺射的后期,在直流濺射表面加上磁場,使自由電子受到磁場的束縛,從而改善了上述缺點(diǎn)。這也是現(xiàn)階段廣泛使用的濺射方法
然后是中頻濺射,這增加了陰極發(fā)電的速度
然而,射頻濺射是對(duì)靶材進(jìn)行高頻濺射,不易放電。靶子可以用金屬或陶瓷材料制成。沉積膜致密,附著力好
磁控鍍膜機(jī)的特點(diǎn):
1、支持向上或向下的鍍膜方式;
2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠;
3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置,實(shí)現(xiàn)了所見即所得;
4、多通道透射式監(jiān)控,配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板,實(shí)現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制;
5、支持任意膜厚的控制;
6、通用的控制平臺(tái),友好的人機(jī)界面,使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機(jī)的所有控制參數(shù);
7、開放式接口,方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀;
8、磁控鍍膜機(jī)可實(shí)現(xiàn)氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制,適用出氣量大的低溫鍍膜。
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