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GeminiSEM 場發(fā)射掃描電子顯微鏡

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產(chǎn)品簡介

GeminiSEM系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有出色的探測效率,能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下,更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對(duì)任意樣品進(jìn)行成像和分析時(shí)都具備更佳的靈活性,為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室或是顯微成像平臺(tái)中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像,提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

詳細(xì)介紹

 

GeminiSEM 場發(fā)射掃描電子顯微鏡

 

GeminiSEM 系列產(chǎn)品:高對(duì)比度、低電壓成像的場發(fā)射掃描電子顯微鏡

蔡司GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測效率,能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下,更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對(duì)任意樣品進(jìn)行成像和分析時(shí)都具備更佳的靈活性,為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室或是顯微成像平臺(tái)中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像,提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

運(yùn)用GeminiSEM系列產(chǎn)品,您可輕松獲取真實(shí)世界中任意樣品出色的圖像和可靠的分析結(jié)果.

  • GeminiSEM 500 具有出色的分辨率,在較低的加速電壓下仍可呈現(xiàn)給您更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息,其創(chuàng)新設(shè)計(jì)的NanoVP可變壓力模式,甚至讓您在使用時(shí)擁有在高真空模式下工作的感覺;
  • GeminiSEM 450 具有出色的易用性設(shè)計(jì)、更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度,使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析,充當(dāng)您的得力助手;
  • GeminiSEM 300 具有出色的分辨率、更高的襯度和更大且無畸變的成像視野,可方便地選取適合樣品的真空度等環(huán)境參數(shù),使FESEM初學(xué)者也能快速掌握;

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

更強(qiáng)的信號(hào),更豐富的細(xì)節(jié)

GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息,尤其在低的加速電壓下,在避免樣品損傷的同時(shí)快速地獲取更高清晰度的圖像。

 

  • 經(jīng)優(yōu)化和增強(qiáng)的Inlens探測器可高效地采集信號(hào),助您快速地獲取清晰的圖像,并使樣品損傷降至更低;
  • 在低電壓下?lián)碛懈叩男旁氡群透叩囊r度,二次電子圖像分辨率1 kV達(dá)0.9nm,500 V達(dá)1.0 nm,無需樣品臺(tái)減速即可進(jìn)行高質(zhì)量的低電壓成像,為您呈現(xiàn)任意樣品在納米尺度上更豐富的細(xì)節(jié)信息;
  • 應(yīng)用樣品臺(tái)減速技術(shù)-Tandem decel),可在1 kV下獲得高達(dá)0.8nm二次電子圖像分辨率;
  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)的可變壓力模式-NanoVP技術(shù),讓您擁有身處在高真空模式下工作的感覺。

 

更高的速度與靈敏度,更好的成像和分析

GeminiSEM 450更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析,簡便、快速地進(jìn)行EDS能譜和EBSD等分析,同時(shí)保持出色的空間分辨率,充當(dāng)您的得力助手。

 

  • EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像,在低電壓條件下工作時(shí)更為優(yōu)異;
  • 可快速地對(duì)樣品進(jìn)行大范圍及高質(zhì)量成像;
  • 經(jīng)優(yōu)化的電子光學(xué)鏡筒,減少了工作過程中進(jìn)行重新校準(zhǔn)的復(fù)雜流程,節(jié)省成像時(shí)間,提高工作效率;
  • 無論是不導(dǎo)電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品,無論是高真空或是可變壓力模式,均可實(shí)現(xiàn)快速和高質(zhì)量的成像和分析.

 

更靈活的成像方式

無論是*用戶還是初學(xué)者,GeminiSEM 300將讓您體驗(yàn)到在更高的分辨率和更佳的襯度下進(jìn)行*視野范圍成像的樂趣,并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實(shí)現(xiàn)。

 

  • 得益于高效的信號(hào)采集系統(tǒng)和優(yōu)異的分辨率性能,可實(shí)現(xiàn)快速、高質(zhì)量、無畸變的大范圍成像;
  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)的高分辨率電子槍模式,為對(duì)磁性樣品、不導(dǎo)電樣品以及電子束敏感樣品的低電壓成像量身訂制解決方案;
  • 蔡司獨(dú)樹一幟的鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測器,在低電壓下也可輕松地獲得高質(zhì)量的樣品材料襯度圖像;
  • NanoVP技術(shù)讓您可以使用鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測器對(duì)要求苛刻的不導(dǎo)電樣品進(jìn)行高靈敏度、高分辨成像。

 

技術(shù)參數(shù)

 

型號(hào)

GeminiSEM 500

 GeminiSEM 450

GeminiSEM 300

 

熱場發(fā)射電子槍,穩(wěn)定性優(yōu)于0.2 %/h

加速電壓

0.02 - 30 kV

探針電流

3 pA - 20 nA

3 pA - 40 nA

3 pA - 20 nA

(100 nA配置可選)

(100 nA或300 nA配置可選)

(100 nA配置可選)

存儲(chǔ)分辨率

高達(dá)32k × 24k 像素

放大倍率

50 – 2,000,000

12 – 2,000,000

12 – 2,000,000

標(biāo)配探測器

鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測器

樣品室內(nèi)的Everhart Thornley二次電子探測器

可選配的

項(xiàng)目

鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測器

-

角度選擇背散射探測器

角度選擇背散射探測器

環(huán)形STEM探測器(aSTEM 4)

EDS能譜儀

EBSD探測器(背散射電子衍射)

NanoVP可變壓力模式

高效VPSE探測器(包含在NanoVP可變壓力選件中)

局部電荷中和器

可訂制特殊功能樣品臺(tái)

環(huán)形背散射電子探測器

陰極射線熒光探測器

 

 

 

 

 

Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)

Gemini 1 –成熟的Gemini技術(shù)概覽

場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有更高的分辨率,離不開其性能優(yōu)異的電子光學(xué)鏡筒。蔡司Gemini技術(shù)專為對(duì)任意樣品進(jìn)行高分辨成像設(shè)計(jì),尤其在低電壓下保持完整和高效的探測系統(tǒng)、出色的分辨率和易用性等特點(diǎn)。

 

蔡司Gemini電子光學(xué)鏡筒具有以下三個(gè)主要特點(diǎn)

  • 蔡司Gemini物鏡的設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電場和磁場,在提高其電子光學(xué)性能的同時(shí)將它們對(duì)樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設(shè)計(jì),可以對(duì)如磁性材料等挑戰(zhàn)的樣品同樣地進(jìn)行高品質(zhì)成像;
  • 蔡司Gemini電子束推進(jìn)器技術(shù),讓電子束經(jīng)過加速后以高電壓通過鏡筒,終再減速至設(shè)定電壓后進(jìn)入樣品倉,很大程度地減小電子束的像差,保證了在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比;
  • 蔡司Gemini 鏡筒的設(shè)計(jì)理念將Inlens二次電子(SE)和背散射電子(BSE)探測器均放置在鏡筒內(nèi)正光軸上,使兩者均具有更高的信號(hào)采集效率且可以同時(shí)成像,有效的縮短了獲取圖像的時(shí)間,更好地提高工作效率。

蔡司Gemini技術(shù)優(yōu)勢能為您提供以下便利:

  • 經(jīng)校準(zhǔn)后的鏡筒具有*的穩(wěn)定性,您在日常使用時(shí)只需要簡易地設(shè)定基本的參數(shù),如加速電壓、探針電流等;
  • 無漏磁的物鏡設(shè)計(jì),可對(duì)包括磁性樣品在內(nèi)的各類型樣品進(jìn)行無畸變、高分辨率的成像;
  • Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號(hào)采集效率,給您呈現(xiàn)來自樣品極表面的真實(shí)形貌圖像;
  • 鏡筒內(nèi)能量過濾背散射探測器以其創(chuàng)新的設(shè)計(jì)理念,使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實(shí)的樣品材料襯度圖像。

Gemini 1類型鏡筒 -延續(xù)創(chuàng)新和發(fā)展

如今,掃描電子顯微鏡(SEM)在低電壓下的高分辨成像能力,已成為其在各項(xiàng)應(yīng)用領(lǐng)域中的標(biāo)準(zhǔn)配置。

低電壓下的高分辨率成像能力,在以下應(yīng)用領(lǐng)域中扮演著尤為重要的角色:

  • 電子束敏感樣品
  • 不導(dǎo)電樣品
  • 獲取樣品極表面的真實(shí)形貌信息

 

Gemini的革新電子光學(xué)設(shè)計(jì),應(yīng)用高分辨率電子槍模式、Nano-twin lens物鏡(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel樣品臺(tái)減速技術(shù)(選配),有效提高了在低電壓時(shí)的信號(hào)采集效率和圖像襯度。

Gemini 2類型鏡筒-出色的綜合性能,為您所欲為

要實(shí)現(xiàn)對(duì)任意樣品都能進(jìn)行高質(zhì)量的測試和表征,掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優(yōu)異的性能,同時(shí)能給用戶簡單易用的操作體驗(yàn)。如今,Gemini 2鏡筒可滿足您在這些方面的各種需求:

  • GeminiSEM 450 配置雙聚光鏡的Gemini 2類型電子光學(xué)鏡筒;
  • 在確保獲得出色的小電子束斑的同時(shí),束流連續(xù)可調(diào);
  • 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進(jìn)行無縫切換;
  • 調(diào)整工作參數(shù)后無需對(duì)電子束進(jìn)行重新校準(zhǔn),為您節(jié)約時(shí)間,提高儀器效率;
  • 操作靈活易用,高電子束能量密度下的高分辨率成像,低束流分析,高束流分析等各類不同的工作模式,一切由您而定;
  • 物鏡無漏磁設(shè)計(jì),在大視野范圍成像和EBSD分析中不會(huì)引起畸變,確保獲得樣品高質(zhì)量的圖像;
  • 出色、穩(wěn)定的電子光學(xué)鏡筒,對(duì)各種類型的樣品都能簡單快速的進(jìn)行高分辨率成像,即使在使用中樣品需要傾斜,甚至是對(duì)磁性樣品進(jìn)行成像;
  • P搭載局部電荷中和器或NanoVP可變壓力模式,有效地消除樣品的表面荷電,讓您在出色參數(shù)下對(duì)樣品進(jìn)行成像和分析。

NanoVP可變壓力模式-更豐富的細(xì)節(jié),更靈活的適用性

NanoVP可變壓力模式技術(shù),為您提供對(duì)不導(dǎo)電樣品成像優(yōu)秀的解決方案,更大程度地發(fā)揮鏡筒內(nèi)Inlens探測器高性能和高分辨率的優(yōu)異性能:

  • 消除不導(dǎo)電樣品的表面荷電現(xiàn)象;
  • NanoVP可變壓力技術(shù)有效地減小電子束展寬,確保在可變壓力模式中發(fā)揮鏡筒內(nèi)Inlens探測器的優(yōu)異性能,獲得高分辨率的圖像,可變壓力范圍可高達(dá)150 Pa;
  • 因此,即使是在可變壓力模式下,鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測器和EsB背散射探測器仍可同時(shí)成像,助您獲得樣品極表面的高分辨形貌圖像和更高襯度的背散射圖像;
  • 樣品室內(nèi)同時(shí)搭載VPSE探測器,可對(duì)要求更為苛刻的樣品在高達(dá)500 Pa的壓力下進(jìn)行高質(zhì)量成像。

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