微區(qū)掃描電化學工作站- SECM,LEIS,SVET,SKP
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上海巨納科技有限公司
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所 在 地上海
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更新時間:2024-02-13 16:01:44瀏覽次數:99次
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簡要描述:二硒化鉿晶體 HfSe2(Hafnium Selenide)晶體尺寸:~10毫米電學性能:半導體晶體結構:六邊形晶胞參數:a = b = 0.3745 nm, c = 0.6160 nm, α = β = 90#176;, γ = 120#176;晶體類型:合成晶體純度:>99.995%
二硒化鉿晶體 HfSe2(Hafnium Selenide)
晶體尺寸:~10毫米
電學性能:半導體
晶體結構:六邊形
晶胞參數:a = b = 0.3745 nm, c = 0.6160 nm, α = β = 90°, γ = 120°
晶體類型:合成
晶體純度:>99.995%
X-ray diffraction on a Hafnium Diselenide single crystal aligned along the (001) plane. XRD was performed at room temperature using a D8 Venture Bruker. The 4 XRD peaks correspond, from left to right, to (00l) with l = 1, 3, 4, 5
Powder X-ray diffraction (XRD) of a single crystal HfSe2. X-ray diffraction was performed at room temperature using a D8 Venture Bruker.
Stoichiometric analysis of a single crystal HfSe2 by Energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDX).
Raman spectrum of a single crystal HfSe2. Measurement was performed with a 785 nm Raman system at room temperature.
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