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真空紫外光譜儀

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產(chǎn)品型號H20-UVL

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聯(lián)系方式：王先生查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-01-23 12:18:33瀏覽次數(shù)：261次

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HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：96條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：王先生（經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外光譜儀產(chǎn)品簡介H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動實現(xiàn)快速精確的光譜掃描，可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動實現(xiàn)快速精確的光譜掃描，可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。

真空紫外光譜儀技術(shù)特點(diǎn)
    單片式光學(xué)結(jié)構(gòu)確保光通量zui大化，高光學(xué)穩(wěn)定性
    配備4型消像差單色儀光柵，全光譜范圍線色散均勻
    全自動蝸輪高速驅(qū)動光柵
    光柵表面鍍氟化鎂膜，優(yōu)化120nm以上波長的輸出

典型應(yīng)用
    透射反射測量
    熒光激發(fā)
    可調(diào)濾波/光源
    激光諧波濾波

真空紫外光譜儀技術(shù)指標(biāo)

光學(xué)設(shè)計	HJY的4型消像差單色儀光柵
焦長	200 mm
孔徑	f/4.2
刻線密度	1200 gr/mm
光學(xué)鍍膜	針對121nm優(yōu)化的MgF2膜
偏轉(zhuǎn)角	64°
色散	100nm處3.6 nm/mm
驅(qū)動	高速蝸輪驅(qū)動
zui小步進(jìn)	0.06 nm
速度	400 nm/s
精度	+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*)
可重復(fù)性	+/-0.06 nm
分辨率	優(yōu)于0.5 nm (**)
高真空	10^-5 mbar (***)
真空泵法蘭	DN40 KF
入射/出射接口	測微狹縫(10 um 至 2 mm)
入射/出射法蘭	DN25 KF
電腦接口	USB2.0
可選項
超高真空	10^-9 mbar
狹縫高度調(diào)節(jié)器	2, 4, 6 mm
(*)使用我們固件中的軟件驅(qū)動矯正可以提高單色儀的精度
()使用寬10微米，高2mm的狹縫在121nm處測量 (*)H20-UVL不含真空泵和真空計

附件
   前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配
   后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配
   樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
   偏振插片
   制冷機(jī)，zui低至4K
   真空泵