一、產(chǎn)品特性:
1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能,真正意義上的摩擦磨損測(cè)試;
2、符合ASTM3702,ASTM G99與ASTM G133等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn);
3、用于高**進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線;
4、有旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),環(huán)-塊,環(huán)-環(huán)四種工作模式;
5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可**控制馬達(dá)控制速度與位置;
6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線;
7、*大載荷:100N;
8、轉(zhuǎn)度:0.01-5000rpm,15000rpm可選;
9、密封式裝置,可以控制環(huán)境,如:氣體、濕度、潤(rùn)滑等;
10、高溫模式選件,*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損;
11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試
12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc, Rt,Rq,Rsk,Rku,)等表面參數(shù)
13、原位電化學(xué)工作站選件,搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。
14、真空模塊選件,可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。
15、低溫模塊選件,可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試
二、產(chǎn)品應(yīng)用
半導(dǎo)體技術(shù): ·鈍化層 ·金屬涂敷 ·焊墊 醫(yī)療: ·藥片 ·植入物 ·生物組織 光學(xué)元件: ·棱鏡 ·光纖 ·光學(xué)元件涂層 ·高容量光存儲(chǔ): ·磁盤(pán)涂層 ·CD涂層 ·薄膜 | 耐磨材料涂層: ·TiN, TiC, DLC ·切削工具 工程: ·橡膠 ·觸摸屏 ·涂層 微電子器件系統(tǒng) 裝潢金屬涂層 汽車: ·噴漆涂層 ·玻璃印刷層 ·汽車精加工部件 |
三、技術(shù)參數(shù)
主機(jī)參數(shù):
參數(shù) | 旋轉(zhuǎn)模式 | |
載荷范圍 | 50mN-100N | |
載荷分辨率 | 6μN(yùn) | |
旋轉(zhuǎn)速度 | 0.01-5000rpm/0.05-15000rpm | |
*大扭矩 | 4.4Nm | |
*大摩擦力 | +/-100N | |
摩擦力分辨率(理論) | 6μN(yùn) | |
X軸自動(dòng)控制范圍 | 50mm | |
X軸半徑分辨率 | 2.5μm | |
儀器尺寸 | 65cm×52cm×65cm | |
重量 | 約70Kg | |
盤(pán)尺寸 | 100mm | |
接觸探頭 | 可選針型、球形與銷型 | |
線性往復(fù)模式 | ||
*大振幅 | 25mm | |
*大掃描頻率 | 60Hz@5mm沖程 | |
潤(rùn)滑控制系統(tǒng)(可選) | ||
液體消耗率 | 60-90cm3/hour | |
液體容量 | 120ml | |
液體容器 | 包含 | |
高溫測(cè)量系統(tǒng)(可選) | ||
箱體溫度(旋轉(zhuǎn)模式) | 1100℃ | |
加熱片(線掃描模式) | 800℃ | |
液體加熱模式 | 150 ℃ | |
分辨率 | 1℃ | |
低溫模塊(可選) | ||
-40℃/-150℃ | ||
深度傳感器(可選) | ||
*大位移量 | 2000μm | |
分辨率 | 0.1nm | |
接觸電阻(可選) | ||
*大阻抗 | 0-1000 Ohms | |
表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù):
NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇:
EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:
1) Z方向測(cè)量范圍:100μm
2) Z方向測(cè)量分辨率:20nm
3) Z方向測(cè)量精度:50nm
4)橫向光學(xué)分辨率:3μm
5)光斑直徑:6μm
6)工作距離:1mm
EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:
1) Z方向測(cè)量范圍:1.5mm
2) Z方向測(cè)量分辨率:200nm
3) Z方向測(cè)量精度:300nm
4)橫向光學(xué)分辨率:3.5μm
5)光斑直徑:7μm
6)工作距離:2.3mm