污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2022-09-05 11:11:29瀏覽次數(shù)：152次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線納米壓痕儀 2018/06/07 基礎(chǔ)參數(shù)類(lèi)型/使用：在真空（SEM,部分真空，惰性氣體）中，在空氣中主要縮進(jìn)模式：真正的位移測(cè)試協(xié)議的適應(yīng)性：可定制軟件升級(jí)選項(xiàng)/擴(kuò)展功能：高溫和超高應(yīng)變率模塊縮進(jìn)縮進(jìn)提示：Berkovich，Cube Corner，F(xiàn)lattop，Wedge，Spherical 等縮進(jìn)范......
基礎(chǔ)參數(shù)
類(lèi)型/使用：在真空（SEM,部分真空，惰性氣體）中，在空氣中
主要縮進(jìn)模式：真正的位移
測(cè)試協(xié)議的適應(yīng)性：可定制軟件
升級(jí)選項(xiàng)/擴(kuò)展功能：高溫和超高應(yīng)變率模塊
縮進(jìn)
縮進(jìn)提示：Berkovich，Cube Corner，F(xiàn)lattop，Wedge，Spherical 等
縮進(jìn)范圍：40μm
位移噪底：<1nm
負(fù)載范圍：500mN 標(biāo)準(zhǔn)/可選 1.5N
加載本底噪聲：4μN(yùn)/12μN(yùn) RMS 噪聲
竇狀模式：200Hz 的位移模式
壓痕簡(jiǎn)介：操作員可以自由定義任何輪廓（位移或載荷）
樣品頂端對(duì)齊
壓頭尖遠(yuǎn)程方法：22mm 范圍，1nm 分辨率（閉環(huán)）
自動(dòng)接近模式：超過(guò)幾毫米
采樣位置范圍：26x26mm，1nm 分辨率（閉環(huán)）
壓痕面積（推薦） 10x10mm
室溫下的漂移：5nm/min（在真空中）
超高應(yīng)變率模塊
應(yīng)變率：達(dá) 3000s -1
竇狀模式：開(kāi)環(huán) 10kHz
啟動(dòng)范圍：1μm
測(cè)量范圍：1N
加載本底噪聲：30μN(yùn) RMS 噪聲
高溫模塊
高溫度范圍：標(biāo)準(zhǔn) 600℃/可選 800℃
在 600℃時(shí)的漂移：10nm/min
在 600℃時(shí)的穩(wěn)定時(shí)間：<3 小時(shí)
壓頭尖材料：金剛石，立方氮化硼，藍(lán)寶石，碳化鎢等
溫度穩(wěn)定性：10mK 分辨率
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