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湖南頂立科技有限公司
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更新時間:2022-10-30 14:32:37瀏覽次數(shù):299次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線熱解碳化硼生長爐主要用于半導體領域,如OLED坩堝、PBN板材/環(huán)舟、VGF坩堝、LEC坩堝等的制備
采用*的控制技術(shù),能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動小;
全密閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
多通道工藝氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
多級高效尾氣處理系統(tǒng),能有效處理高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物,環(huán)境友好;
可選配新設計的防腐蝕真空機組,持續(xù)工作時間長,維修率低;
適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。
參數(shù)/型號 | VCVD-0305-BN | VCVD-0608-BN | VCVD-0612-BN | VCVD-0812-BN | VCVD-1120-BN | VCVD-1218-BN | VCVD-1315-BN | VCVD-1520-BN |
工作區(qū)尺寸 φ×H(mm) | 300×500 | 600×800 | 600×1200 | 800×1200 | 1100×2000 | 1200×1800 | 1300×1500 | 1500×2000 |
溫度(℃) | 2000 | 2000 | 2000 | 2000 | 2000 | 2000 | 2000 | 2000 |
溫度均勻性(℃) | ±5 | ±7.5/±10 | ±7.5/±10 | ±7.5/±10 | ±10/±15 | ±10/±15 | ±10/±15 | ±15/±20 |
極限真空度(Pa) | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
壓升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
加熱方式 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 |
以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。
結(jié)構(gòu)形式:立式-上出料/下出料
爐門鎖緊方式:手動/自動
爐殼材質(zhì):內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
保溫材質(zhì):碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈
加熱器、馬弗材質(zhì):石墨/CFC
熱電偶:C分度號
紅外儀:單比色/雙比色
真空泵:機械泵組/耐腐蝕泵組
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