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離子濺射儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

離子濺射儀

詳細(xì)介紹

設(shè)備簡(jiǎn)介：

NBD-LJ13離子濺射儀為掃描電鏡制作樣品而設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作使用直觀方便等特點(diǎn)。不需要很高的真空度就可以對(duì)掃描電鏡樣品進(jìn)行離子濺射，可作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設(shè)備。

配置詳情

產(chǎn)品型號(hào)：NBD-LJ13

		主要特點(diǎn) 1.采用4C真空泵，各方面降噪，提升實(shí)驗(yàn)感受； 2.標(biāo)配樣品室真空表和濺射電流表，實(shí)時(shí)顯示和監(jiān)控儀器狀態(tài)； 3.邊緣橡膠密封圈，長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊"現(xiàn)象。 4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結(jié)合自動(dòng)控制電路，輕松控制真空室壓強(qiáng)、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得很好的鍍膜效果； 5.標(biāo)配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大；
		控制面板：真空表：真空度的計(jì)量單位mmHg或Pa相對(duì)應(yīng)的刻在表盤(pán)上，可方便的讀出工作室內(nèi)的真空度。電流表：顯示濺射電流值單位(mA)。微調(diào)閥(充氣閥)：用于向工作室內(nèi)進(jìn)行充氣，試驗(yàn)按鈕：配合針閥設(shè)置，以便獲得滿意的濺射電流值（小于10mA）。濺射按鈕：當(dāng)“實(shí)驗(yàn)"按鈕電流小于10mA時(shí)，可以按“濺射"按鈕，對(duì)樣品進(jìn)行離子濺射。時(shí)間設(shè)定開(kāi)關(guān)：控制離子濺射時(shí)間，定時(shí)開(kāi)關(guān)10～110S. 電源開(kāi)關(guān)：控制儀器機(jī)箱電源及機(jī)械泵的通斷。
		高純石英真空腔體Φ130（內(nèi)118）*130mm 樣品臺(tái)尺寸：Φ42mm 樣品臺(tái)可調(diào)高度：75mm
電氣規(guī)格	AC220V 120W
腔體尺寸	Φ130（內(nèi)118）*130mm
樣品臺(tái)尺寸	Φ42mm
樣品臺(tái)可調(diào)高度	樣品臺(tái)可調(diào)高度：75mm
樣品溫度	＜35~50℃
適用靶材	貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
濺射速度	一般來(lái)說(shuō)，用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗(yàn)法測(cè)定厚度，可由下面的公式得到 d = KIVT 其中： d：是鍍膜厚度(單位?) K：是常數(shù)，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時(shí)K為0.17，金靶和空氣K為0.07)，此時(shí)靶與樣品之間的距離 I：是等離子流(單位mA) V：是所施電壓(單位kv) T“"是時(shí)間(單位s)。例如采用金靶和氬氣，l為8mA,T為100秒，V為1KV 則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136? 即每秒1.36? 濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度，因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。其它金屬靶的濺射速度，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。
設(shè)備使用注意事項(xiàng)	1.靶材的更換先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭，拿下濺射蓋板，松開(kāi)三只頂絲，拿下保護(hù)板，然后擰下壓環(huán)就可以更換新靶。 2.真空工作室清洗腔體工作室用無(wú)水乙醇、丙酮清洗，以保證系統(tǒng)能正常工作。 3、針閥使用針閥關(guān)閉后再反向擰兩圈，以防止針閥長(zhǎng)時(shí)間不用出現(xiàn)閥針回彈不靈活的現(xiàn)象。如遇到打開(kāi)針閥時(shí)不向工作室放氣，請(qǐng)將針閥鈕擰到底后再重新打開(kāi)即可。
標(biāo)配	1.NBD-4C真空泵； 2 金靶1只：Φ58*0.12 3.說(shuō)明書(shū)一份.（可選配分子泵）
服務(wù)支持	一年保修，提供終身服務(wù)；
凈重	25KG

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