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深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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更新時(shí)間:2023-01-06 12:09:54瀏覽次數(shù):315次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持到12的晶圓片。
NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問(wèn)功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?;谌詣?dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。
NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):
鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率,400 ?/min
高達(dá)12"的陽(yáng)極氧化鋁RF樣品臺(tái)
水冷及加熱的RF樣品臺(tái)
大的自偏壓
淋浴頭氣流分布
極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別
渦輪分子泵
最多支持5個(gè)MFC
無(wú)繞曲氣體管路
自動(dòng)下游壓力控制
雙刻蝕能力:RIE以及PE刻蝕(可選)
終點(diǎn)監(jiān)測(cè)
氣動(dòng)升降頂蓋
自動(dòng)上下載片
預(yù)真空鎖
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)
的安全聯(lián)鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái),用于深硅刻蝕
NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品型號(hào):
NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44"W
NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W
NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W
NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)
NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)
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