污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
沈陽(yáng)好智多新材料制備技術(shù)有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2022-11-02 16:30:51瀏覽次數(shù)：221次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線「設(shè)備用途」采用物理冶金提純法，主要用于冶金級(jí)工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽(yáng)能級(jí)多晶硅原材料
「設(shè)備用途」
采用物理冶金提純法，主要用于冶金級(jí)工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽(yáng)能級(jí)多晶硅原材料。
| 產(chǎn)品型號(hào) | VEBZ-2 | |
| 主真空室 | 臥式圓筒型真空室，尺寸φ1000×2000mm，雙層水冷。 | |
| 主真空室真空獲得系統(tǒng) | 擴(kuò)散泵，羅茨泵，機(jī)械泵，高真空氣動(dòng)擋板閥。 | |
| 極限真空度 | 6.6×10-3Pa（冷態(tài)），漏率：≤1×10-7Pa.L/s；壓升率：1.33Pa./h。 | |
| 雙槍電子束系統(tǒng) | 電子槍漏率：≤1×10-7Pa.L/s；工作真空度6.6×10-1Pa-6.6×10-3Pa.（用戶可自己提供）。 | |
| 加料系統(tǒng) | 加料倉(cāng)設(shè)有電動(dòng)給料裝置，硅料塊直徑不大于30mm，加料倉(cāng)下面設(shè)有電動(dòng)進(jìn)料裝置，每次加料量為2kg硅料。加料倉(cāng)和進(jìn)料機(jī)構(gòu)之間設(shè)有電動(dòng)閘板閥，采用獨(dú)立真空獲得系統(tǒng)。 | |
| 澆鑄系統(tǒng) | 設(shè)有一套翻轉(zhuǎn)同軸電極。 | |
| 出料系統(tǒng) | 出料倉(cāng)尺寸 | 立式U型：φ600×1000，雙層水冷，獨(dú)立真空獲得系統(tǒng)。 |
| 料框升降機(jī)構(gòu) | 液壓升降機(jī)構(gòu)。 | |
| 水冷銅結(jié)晶器 | 內(nèi)部尺寸：φ300×800。 | |
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