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XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

性能優(yōu)勢：

1、微小樣品檢測：最小測量面積0.0085mm2

2、變焦裝置算法：可改變測量距離

測量面積：最小0.008mm2

鍍層分析：23層鍍層24種元素

儀器特點：RoHS鹵素有害元素檢測

儀器優(yōu)勢：全元素自動分析

儀器簡介：

XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

技術(shù)參數(shù)：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層檢出限：0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm2）

標配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm2）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm

9. 儀器重量：100KG

10. XY軸工作臺移動范圍：100mm*150mm

11. XY軸工作臺承重：15KG

應用領(lǐng)域：

多元迭代EFP核心算法

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

有害元素檢測：RoHS檢測，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分檢測及含量分析

配置清單：