污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間:2023-02-12 10:12:03瀏覽次數(shù):667次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線設(shè)備用途:大面積電子槍蒸發(fā)光電膜、光學(xué)膜和防指紋膜
設(shè)備用途:大面積電子槍蒸發(fā)光電膜、光學(xué)膜和防指紋膜。
愛科斯的IKS-OPT2700蒸發(fā)鍍膜機(jī)為實(shí)現(xiàn)大量快速生產(chǎn)大面積光學(xué)膜鍍膜和單層/多層表面改性膜而設(shè)計(jì),本機(jī)為立式單腔體鍍膜機(jī),是一種基于電子槍蒸發(fā)的多層光學(xué)薄膜鍍膜系統(tǒng)。本設(shè)備的主要產(chǎn)品蒸發(fā)沉積多層光學(xué)介質(zhì)膜和防指紋膜等,例如,可見光彩色膜、鋁反射膜、AF防指紋膜、低熔點(diǎn)有機(jī)物膜、可見光分光膜、可見光抗反射膜等,也可以為特定的簡單光學(xué)特性膜系進(jìn)行調(diào)試生產(chǎn)。設(shè)備參數(shù)
爐體尺寸 | Ф2700×H1670 | 工件架 | φ2650*H420mm |
真空度 | 極限真空:6×10-4Pa(24小時(shí)空載,不加熱) | 重量 | 8000kg,地板承重﹥1000kg/m2 |
漏率 | <4×10-3Pa×L/S(氦撿漏) | 溫度 | 室溫-250℃,溫度均勻性±5% |
工作真空 | 6*10-3Pa(自動(dòng)工藝啟動(dòng)) | 供電 | 三相電, 380V,50Hz,60-100KW |
低真空 | 10 分鐘<10Pa | 水冷 | 腔體流量大于4000l/h,泵組流量大于1800l/h 冷凍機(jī)流量大于1600l/h |
高真空 | 6 分鐘<8×10-3Pa | 溫水 | 蒸發(fā)源1800l/h,35-60℃ |
真空測量 | 全程監(jiān)控,實(shí)時(shí)取點(diǎn) | 占地 | L6×w5.5×H3.5m |
應(yīng)用 | 眼鏡、反光鏡、手機(jī)背板、防護(hù)罩、光通訊、光學(xué)顯示等 |
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應(yīng)用
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