雙層風(fēng)扇散熱裝置
主要特點(diǎn)
貝意克公司研制的PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū),輝光均勻等效,這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài),這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍,并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。其優(yōu)勢(shì)有沉積溫度低,沉積速率快,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂等。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào): | BTF-1200C-PECVD |
實(shí)驗(yàn)機(jī)理: | PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)。通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單。 |
技術(shù)參數(shù): | 加熱區(qū)參數(shù) 反應(yīng)腔體尺寸:Φ50,Φ60,Φ80,Φ100 加熱元件:電阻絲(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo) 加熱區(qū)長(zhǎng)度:440mm 恒溫區(qū)長(zhǎng)度:200mm(±1℃) 工作溫度:1100℃ Z高溫度:1200℃ 控溫方式:模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié),智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報(bào)警功能 控溫精度:±1℃ 升溫速率:20℃/min 爐門(mén)結(jié)構(gòu):開(kāi)啟式 工作電源:AC220V /50HZ 額定功率:3KW |
真空參數(shù) 采用KF25系列波紋管和手動(dòng)擋板閥; 真空度可達(dá)10-3torr; 數(shù)顯真空測(cè)試儀可直觀的顯示數(shù)值。 | |
流量控制參數(shù) 內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量; 氣體流量范圍可選,誤差為±1.5%; 一個(gè)氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥; 不銹鋼針閥安裝在左側(cè)可手動(dòng)控制混合氣體輸入。 | |
射頻電源與匹配器 電源:?jiǎn)蜗?0/60Hz 220v±10% 加熱(功率)電源:2.5KW,25A 控制柜電源空氣開(kāi)關(guān):32A空氣開(kāi)關(guān) 薄膜生長(zhǎng)室溫度:室溫~ 1200℃ 射頻頻率:13.56MHz 射頻功率輸出范圍:5~500W | |
細(xì)節(jié)展示: | |
外型尺寸: | 爐體:940×380×520mm 供氣及真空系統(tǒng):600×600×600mm |
凈重: | 130Kg |
認(rèn)證和: | 號(hào):ZL.0 (產(chǎn)品,防偽必究) |