詳細(xì)摘要: CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由鍍膜腔室(500H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統(tǒng),旋轉(zhuǎn)加熱基片臺,氣路系統(tǒng),電氣控制及報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)等組成。
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-10-22 在線留言污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備